[發明專利]一種結合RM算法與BP算法的柱面近場三維RCS成像方法

有效

• 申請號: 201410353674.X
• 申請日: 2014-07-23
• 公開（公告）號: CN104133213B
• 公開（公告）日: 2017-01-11
• 發明（設計）人: 顏振;劉偉;杜劉革;胡大海;周揚;王亞海;年夫順;常慶功;張文濤;趙銳
• 申請（專利權）人: 中國電子科技集團公司第四十一研究所
• 主分類號: G01S13/89
• 分類號: G01S13/89
• 代理公司: 北京天奇智新知識產權代理有限公司11340
• 代理人: 陳永寧

技術領域

本發明屬于RM算法與BP算法的柱面近場三維RCS成像技術領域，尤其涉及的是一種結合RM算法與BP算法的柱面近場三維RCS成像方法。

背景技術

三維RCS成像利用2個方向不同位置的測量加上掃頻獲取的雷達回波計算目標雷達散射三維像。與二維成像相比，三維高分辨率微波成像可以濾除支架影響，能更好的反映目標電磁散射特性。如何從回波數據得到目標強散射點三維分布是成像的核心問題。不同成像算法需要的測試要求不同，成像速度不同，得到的成像效果也不同。高分辨率三維成像對散射測量意義重大，屬于核心技術。

三維RCS成像根據采樣方式可分為轉臺球面場成像，掃描架平面近場三維成像，柱面三維成像。掃描架平面近場三維成像利用平面波展開法，為比較成熟的成像算法。球面場成像通過二維轉臺轉動測量目標數據。柱面場三維成像一般運用掃描架一維運動與轉臺轉動獲取所需數據。其數據采集系統如圖1所示。

現有方法中最接近的成像方法如下：

1)對轉臺每個角度采集不同高度掃頻數據E(f,θ,z')。

2)根據公式g^(ρ,θ,z)=∫-∞∞∫02π∫-∞∞E(f,θ,z′)ej2kddfdθdz′]]>(1)對3維掃頻數據進行多重積分處理，求解得到目標區柱坐標系三維成像結果

數據處理過程推導如下：

將相位因子e^j2kd根據平面波譜理論展開，根據在得到ej2kd=ej2[krR2+ρ2+2Rρcos(φ-θ)+kz(z′+H-z)]]]>帶入公式(1)，得到：