[發(fā)明專(zhuān)利]具有支撐層的聚醚砜/聚偏氟乙烯共混膜及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410352886.6
• 申請(qǐng)日: 2014-07-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105289338B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-12-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊劉;王鑫;龔志宏
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 上海一鳴過(guò)濾技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B01D71/68
• 分類(lèi)號(hào): B01D71/68;B01D69/10;B01D67/00
• 代理公司: 上海科盛知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司31225
• 代理人: 葉敏華

1.一種具有支撐層的聚醚砜/聚偏氟乙烯共混膜的制備方法，其特征在于，具有支撐層的聚醚砜/聚偏氟乙烯共混膜包括支撐層及膜層，所述的支撐層為聚酯無(wú)紡布，所述的膜層為由聚醚砜、聚偏氟乙烯、溶劑和添加劑制成的聚醚砜/聚偏氟乙烯共混膜，其中聚醚砜與聚偏氟乙烯的總含量為10～30wt％，且聚醚砜與聚偏氟乙烯的重量比為15/1～4/1，添加劑的含量為0.5～45wt％，溶劑含量為45～85wt％；

所述的添加劑選自聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、氯化鋰、丙三醇、水或亞硝酸鈉中的一種或一種以上；

所述的具有支撐層的聚醚砜/聚偏氟乙烯共混膜的孔徑為0.1～10μm，厚度為90～200μm；

制備方法包括以下步驟：

1)聚酯無(wú)紡布的荷電處理：首先在聚酯無(wú)紡布的表面加入荷正電單體溶液，所述的荷正電單體溶液為N-乙烯基吡啶，輻照接枝后，將未反應(yīng)的單體取出，然后用清洗液洗掉殘留在表面的荷電單體，烘干，即可得到荷電無(wú)紡布，作為支撐層；

2)制備鑄膜液：首先將聚醚砜和聚偏氟乙烯溶解在溶劑中，并加入添加劑，在30～70℃下，充分?jǐn)嚢璩蔀榫环€(wěn)定的鑄膜液；

3)膜的制備：將鑄膜液流延到支撐層上，將浸滿(mǎn)鑄膜液的支撐層用刮刀刮膜，預(yù)蒸發(fā)后進(jìn)入到凝固浴中成膜，膜形成后用純水充分淋洗，將殘留在膜內(nèi)的溶劑去除，然后經(jīng)過(guò)高溫滾筒烘干，制得成品膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有支撐層的聚醚砜/聚偏氟乙烯共混膜的制備方法，其特征在于，所述的聚醚砜的重均分子量為30000～150000；所述的聚偏氟乙烯的重均分子量為200000～1500000。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種具有支撐層的聚醚砜/聚偏氟乙烯共混膜的制備方法，其特征在于，所述的聚醚砜的重均分子量為40000～50000；所述的聚偏氟乙烯的重均分子量為300000～500000。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有支撐層的聚醚砜/聚偏氟乙烯共混膜的制備方法，其特征在于，所述的溶劑選自二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮、四氫呋喃、丙酮或二甲基亞砜中的一種或一種以上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有支撐層的聚醚砜/聚偏氟乙烯共混膜的制備方法，其特征在于，所述的清洗液為純水。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有支撐層的聚醚砜/聚偏氟乙烯共混膜的制備方法，其特征在于，刮膜時(shí)，刮刀與支撐層間的間隙為15～40μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有支撐層的聚醚砜/聚偏氟乙烯共混膜的制備方法，其特征在于，預(yù)蒸發(fā)的介質(zhì)為30～50℃的蒸汽，預(yù)蒸發(fā)的時(shí)間為20～600秒；所述的凝固浴的成分為純水，凝固浴中有機(jī)溶劑選自DMAC、DMF或NMP，有機(jī)溶劑在凝固浴中的含量為0～30wt％。