[發明專利]一種具有顏料親和基團的星型結構的聚合物表面活性劑在降低銅的靜態腐蝕速率中的應用

在審

• 申請號: 201410351533.4
• 申請日: 2014-07-23
• 公開（公告）號: CN105273637A
• 公開（公告）日: 2016-01-27
• 發明（設計）人: 張建;荊建芬;宋凱;蔡鑫元;姚穎;陳寶明
• 申請（專利權）人: 安集微電子科技（上海）有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;C23F3/04
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種具有顏料親和基團的星型結構的聚合物表面活性劑在降低銅的靜態腐蝕速率中的應用，其中，所述聚合物被添加入化學機械拋光漿料中，且所述化學機械拋光漿料還包含：研磨顆粒、絡合劑、腐蝕抑制劑和氧化劑。

2.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述的顏料親和基團為選自羥基、氨基和羧基中的一種或多種。

3.如權利要求1所述的應用，其特征在于，形成所述的含顏料親和基團的星型聚合物的聚合單體包括下列中的一種或多種：丙烯酸類單體、丙烯酸酯類單體、丙烯酰胺類單體和環氧乙烷。

4.如權利要求3所述的應用，其特征在于，所述丙烯酸類單體為丙烯酸和/或甲基丙烯酸；所述的丙烯酸酯類單體為選自丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸羥乙酯和甲基丙烯酸羥乙酯中的一種或多種；所述的丙烯酰胺類單體為丙烯酰胺和/或甲基丙烯酰胺。

5.如權利要求3所述的應用，其特征在于，形成所述含顏料親和基團的星型聚合物的單體還包括其他乙烯基類單體。

6.如權利要求5所述的應用，其特征在于，所述其他乙烯基類單體為選自乙烯、丙烯、苯乙烯和對甲基苯乙烯中的一種或多種。

7.如權利要求1或2所述的應用，其特征在于，所述含顏料親和基團的星型聚合物為選自聚丙烯酸星型均聚物，苯乙烯與丙烯酸羥乙酯的二元星型共聚物，對甲基苯乙烯與環氧乙烷的二元星型共聚物，苯乙烯與環氧乙烷的二元星型共聚物，甲基丙烯酸甲酯與環氧乙烷的二元星型共聚物，丙烯酸甲酯與丙烯酸羥乙酯的二元星型共聚物，丙烯酸與丙烯酸羥乙酯的二元星型共聚物，以及丙烯酸、丙烯酸丁酯和丙烯酰胺的三元星型共聚物中的一種或多種。

8.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述含顏料親和基團的星型聚合物的數均分子量為800-50000。

9.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述含顏料親和基團的星型聚合物的含量為質量百分比0.0001～5％。

10.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述研磨顆粒為選自二氧化硅、三氧化二鋁、摻雜鋁的二氧化硅、覆蓋鋁的二氧化硅、二氧化鈰、二氧化鈦和高分子研磨顆粒中的一種或多種。

11.如權利要求10所述的應用，其特征在于，所述的研磨顆粒的含量為質量百分比0.1～20％，所述的研磨顆粒的粒徑為20～150nm。

12.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述絡合劑為選自氨基酸及其鹽、有機羧酸及其鹽、有機膦酸及其鹽。

13.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述絡合劑的含量為質量百分比0.01～10％。

14.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述腐蝕抑制劑為氮唑、咪唑、噻唑、吡啶和嘧啶類化合物中的一種或多種。

15.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述的腐蝕抑制劑的含量為質量百分比0.005～5％。

16.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述氧化劑為過氧化氫、過氧化脲、過氧甲酸、過氧乙酸、過硫酸鹽、過碳酸鹽、高碘酸、高氯酸、高硼酸、高錳酸鉀和硝酸鐵中的一種或多種。

17.如權利要求1所述的應用，其特征在于，所述的氧化劑的含量為質量百分比0.05～10％。