[發明專利]基于氧化還原偶對減輕流體流動驅動的電化學表面降解有效
| 申請號： | 201410351246.3 | 申請日： | 2014-07-23 |
| 公開（公告）號： | CN104343769B | 公開（公告）日： | 2018-05-25 |
| 發明（設計）人： | H·E·海格 | 申請（專利權）人： | 波音公司 |
| 主分類號： | F15B21/04 | 分類號： | F15B21/04 |
| 代理公司： | 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245 | 代理人： | 趙蓉民;張全信 |
| 地址： | 美國伊*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 降解 電化學表面 流體流動 氧化還原 液壓流體 液壓系統 驅動 表面電流 磷酸酯基 添加劑 暴露 | ||
1.一種在液壓系統中使用的液壓流體，所述流體包含：
磷酸酯基化合物，和
添加劑；其中所述添加劑包括氧化還原偶對，所述氧化還原偶對包括茂金屬偶對，
其中所述氧化還原偶對包含具有分子式：M(A
2.根據權利要求1所述的流體，其中所述氧化還原偶對被選擇為在所述液壓流體中為氧化電流和還原電流二者都提供優先通道。
3.根據權利要求1或2所述的流體，其中所述氧化還原偶對包含具有分子式：M(C
4.根據權利要求3所述的流體，其中所述過渡金屬選自Fe、Co、Mn、Cr、Ni和V。
5.根據權利要求1或2所述的流體，其中所述氧化還原偶對選自Fe(環戊二烯)
6.一種液壓系統，其包括：
磷酸酯基液壓流體，和
添加劑；其中所述添加劑包括氧化還原偶對，所述氧化還原偶對包括茂金屬偶對，
其中所述氧化還原偶對包含具有分子式：M(A
7.根據權利要求6所述的系統，其中所述氧化還原偶對被選擇為在所述液壓系統中為氧化電流和還原電流二者都提供優先通道。
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F15B 一般流體工作系統；流體壓力執行機構，如伺服馬達；不包含在其他類目中的流體壓力系統的零部件
F15B21-00 流體致動系統的共有特征；不包含在本小類其他各組中的流體壓力致動系統或其部件
F15B21-02 .來自存儲或定時裝置的程序控制的伺服馬達系統；所用的控制裝置
F15B21-04 .同流體性能有關的各種專門措施，例如，排氣、黏度變化的補償、冷卻、過濾、預防渦流
F15B21-06 .特殊流體的利用，例如液體金屬；使用上述流體的流體壓力系統的特殊利用及其控制部件
F15B21-08 .包括電控設備的伺服馬達系統
F15B21-10 .延遲裝置或設備
