[發明專利]基于Gabor特征的人臉素描合成方法及系統在審
| 申請號： | 201410349998.6 | 申請日： | 2014-07-22 |
| 公開（公告）號： | CN104077742A | 公開（公告）日： | 2014-10-01 |
| 發明（設計）人： | 胡瑞敏;關健;江俊君;韓鎮;董小慧 | 申請（專利權）人： | 武漢大學 |
| 主分類號： | G06T3/40 | 分類號： | G06T3/40 |
| 代理公司： | 武漢科皓知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 胡艷 |
| 地址： | 430072 湖*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 gabor 特征 素描 合成 方法 系統 | ||
1.基于Gabor特征的人臉素描合成方法，其特征在于，包括步驟：
步驟1，將待合成人臉照片、人臉照片訓練集中人臉照片樣本以及人臉素描訓練集中人臉素描樣本劃分為相互重疊的像素塊，待合成人臉照片、人臉照片樣本及人臉素描樣本大小相同，且人臉照片樣本和人臉素描樣本一一對應；
步驟2，提取各像素塊的Gabor特征，基于像素塊Gabor特征的協方差矩陣獲得第一Stein散度矩陣和第二Stein散度矩陣，其中，第一Stein散度矩陣為待合成人臉照片像素塊和各人臉照片樣本像素塊間的Stein散度矩陣，第二Stein散度矩陣為不同人臉照片樣本像素塊間的Stein散度矩陣；
步驟3，基于第一Stein散度矩陣、第二Stein散度矩陣及各人臉照片樣本像素塊的重建系數，采用正則最小二乘法獲得第二Stein散度矩陣對第一Stein散度矩陣進行線性組合的最優權值；
步驟4，采用最優權值將各人臉素描樣本對應位置的像素塊加權合成，獲得該對應位置像素塊的合成人臉素描像素塊；
步驟5，將合成人臉素描像素塊按其在人臉上位置進行融合，獲得待合成人臉照片對應的合成人臉素描。
2.如權利要求1所述的基于Gabor特征的人臉素描合成方法，其特征在于：
步驟2中所述的提取各像素塊的Gabor特征具體為：
獲得像素塊各像素點的Gabor特征，像素塊中各像素點的Gabor特征構成像素塊的Gabor特征。
3.如權利要求1所述的基于Gabor特征的人臉素描合成方法，其特征在于：
所述的像素塊Gabor特征的協方差矩陣C表示像素塊(i,j)Gabor特征的協方差矩陣，Fk表示像素塊(i,j)中第k個像素點(x,y)的Gabor特征；T代表矩陣的轉置，n表示像素塊各行中像素點數。
4.如權利要求1所述的基于Gabor特征的人臉素描合成方法，其特征在于：
所述的第一Stein散度矩陣XSD(i,j)中各元素如下：
所述的第二Stein散度矩陣YSD(i,j)中各元素如下：
式(1)～(2)中，XSD(m,1)(i,j)表示XSD(i,j)中第m行的元素，YSD(m,s)(i,j)表示YSD(i,j)中第m行第s列的元素，m代表Stein散度矩陣中的行號，s代表Stein散度矩陣中的列號，1≤m≤M，1≤s≤M，M表示人臉照片訓練集中人臉照片樣本總數；XC(i,j)是待合成人臉照片像素塊(i,j)Gabor特征的協方差矩陣，YCm(i,j)和YSD(m,s)(i,j)分別表示人臉照片訓練集中第m個樣本和第s個樣本的像素塊(i,j)Gabor特征的協方差矩陣。
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