[發明專利]磁共振成像裝置、圖像處理裝置以及圖像處理方法

有效

• 申請號: 201410347887.1
• 申請日: 2014-07-21
• 公開（公告）號: CN104323775B
• 公開（公告）日: 2017-01-11
• 發明（設計）人: 橫澤俊;越智久晃;尾藤良孝
• 申請（專利權）人: 株式會社日立制作所
• 主分類號: A61B5/055
• 分類號: A61B5/055;G06T11/00
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司11243
• 代理人: 曾賢偉,曹鑫

1.一種磁共振成像裝置，其特征在于，具備：

拍攝部，其按照預定的脈沖序列進行測量，重構圖像；以及

圖像處理部，其對所述重構的圖像實施運算處理，得到參數圖像，

所述脈沖序列是施加彌散梯度磁場脈沖的彌散加權拍攝序列，所述彌散梯度磁場脈沖作為傾斜磁場對核磁共振信號附加伴隨彌散的信號變化，

所述拍攝部使所述彌散梯度磁場脈沖的施加方向以及b值變化來執行所述脈沖序列，取得多個所述圖像，

所述圖像處理部具備：

關心區域設定部，其在所述圖像上設定關心區域；

參數推定部，其使用使所述彌散梯度磁場脈沖的施加方向相同，使b值變化來執行所述脈沖序列而得到的多個所述圖像的所述關心區域的像素的像素值，針對每個像素推定與彌散相關的參數即彌散參數；

判別部，其判別推定的所述彌散參數是否在預先決定的范圍內；

像素值校正部，其對所述判別結果為在所述范圍外的所述像素的像素值進行校正；以及

圖像生成部，其使用每個像素的所述彌散參數生成所述參數圖像，

所述參數推定部通過沒有制約條件的最小二乘擬合推定所述彌散參數，并且針對所述判別結果為在所述范圍外的所述像素，使用所述校正后的像素值重新推定所述彌散參數，

所述圖像生成部，針對校正了像素值的所述像素，使用重新推定的所述彌散參數。

2.根據要求1所述的磁共振成像裝置，其特征在于，

所述最小二乘擬合的模型函數是非線性函數。

3.根據要求1所述的磁共振成像裝置，其特征在于，

所述最小二乘擬合的模型函數是一次函數。

4.根據要求3所述的磁共振成像裝置，其特征在于，

所述像素值校正部通過去除所述彌散參數在所述范圍外的像素來進行所述校正。

5.根據要求1所述的磁共振成像裝置，其特征在于，

還具備對重新推定的所述彌散參數進行校正的參數校正部，

所述參數推定部通過沒有制約條件的最小二乘擬合從所述校正后的像素值重新推定所述彌散參數，

所述判別部判別重新推定的所述彌散參數是否在所述范圍內，

當所述判別結果為在所述范圍外時，所述參數校正部對重新推定的所述彌散參數進行校正。

6.根據要求5所述的磁共振成像裝置，其特征在于，

通過所述參數校正部進行的校正，將重新推定的所述彌散參數置換成所述范圍內最接近的值。

7.根據要求5所述的磁共振成像裝置，其特征在于，

通過所述參數校正部進行的校正，以預先決定的校正值對重新推定的所述彌散參數進行校正，

以針對一個像素計算出的所有彌散參數收斂在所述范圍內的方式決定所述校正值。

8.根據要求1所述的磁共振成像裝置，其特征在于，

還具備可靠度運算部，其計算出推定的所述彌散參數中的、被判別為所述范圍內的參數的個數，將從計算結果得到的信息作為可靠度顯示提示給用戶。

9.根據要求1所述的磁共振成像裝置，其特征在于，

所述彌散參數是彌散系數以及峰度系數，

所述參數圖像將平均彌散、平均峰度、軸向的峰度以及周向的峰度中的某一個作為像素值的圖像。

10.根據要求1所述的磁共振成像裝置，其特征在于，

所述像素值校正部通過平滑化濾波器進行所述校正。

11.根據要求1所述的磁共振成像裝置，其特征在于，

所述參數推定部當重新推定時，將已推定的該像素的所述彌散參數作為初始值，通過有制約條件的最小二乘擬合重新推定所述彌散參數。