[發(fā)明專利]化學(xué)機械拋光墊

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410341023.9
• 申請日: 2014-07-17
• 公開（公告）號: CN104149023A
• 公開（公告）日: 2014-11-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 朱順全;梅黎黎;李云峰
• 申請（專利權(quán)）人: 湖北鼎龍化學(xué)股份有限公司
• 主分類號: B24B37/24
• 分類號: B24B37/24;B24B37/26
• 代理公司: 武漢開元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 42104
• 代理人: 涂潔

1.一種化學(xué)機械拋光墊，至少包括有拋光層，所述拋光層的拋光面上開有多個孔，其特征在于，以所述拋光面的中心為圓心，所述多個孔排列成多排不同徑長的同心的圓環(huán)；并且，以拋光面的中心為端點，均勻散射出多條延至拋光面邊緣的溝槽；所述拋光面的表面粗糙度處于15μm以下。

2.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)機械拋光墊，其特征在于，由拋光層圓心向外覆蓋半徑總長度30％-38％的區(qū)域內(nèi)組成圓環(huán)的孔的孔徑和/或孔間距大于其它區(qū)域組成圓環(huán)的孔的孔徑和/或孔間距。

3.如權(quán)利要求2所述的化學(xué)機械拋光墊，其特征在于，所述其它區(qū)域組成圓環(huán)的孔的孔徑為0.1-10mm，孔間距為1-22mm。

4.如權(quán)利要求2所述的化學(xué)機械拋光墊，其特征在于，所述其它區(qū)域中，同一圓環(huán)中的孔間距相等，但不同圓環(huán)中的孔間距具有由內(nèi)向外逐步減小的趨勢。

5.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)機械拋光墊，其特征在于，所述孔的深度在0.1mm以上且所述溝槽的深度不小于孔的深度。

6.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)機械拋光墊，其特征在于，所述溝槽的深度不小于0.5mm，寬度為0.1-5mm。

7.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)機械拋光墊，其特征在于，所述溝槽在拋光面中心上以均勻角度散射分布，分布數(shù)量為4×N條，且1≦N≦12。

8.如權(quán)利要求1-7任一項所述的化學(xué)機械拋光墊，其特征在于，所述拋光層含有含有聚氨酯聚合物基體以及分散在基體中的非水溶性空心微球。

9.如權(quán)利要求8所述的化學(xué)機械拋光墊，其特征在于，所述非水溶性微球的直徑分布在10μm-100μm之間。

10.如權(quán)利要求1-7任一項化學(xué)機械拋光墊，其特征在于，所述孔是由用切削法、模具成形法或針棒打孔法中的至少一種方法形成的。

11.如權(quán)利要求1-6任一項化學(xué)機械拋光墊，其特征在于，還包括緩沖層，所述拋光層的底面與緩沖層連接。

12.如權(quán)利要求9所述的化學(xué)機械拋光墊，其特征在于，所述緩沖層的底面與支撐層連接。