[發明專利]多邊緣MoS2納米片/石墨烯復合納米材料及制備方法

有效

• 申請號: 201410339879.2
• 申請日: 2014-07-17
• 公開（公告）號: CN104091931B
• 公開（公告）日: 2017-01-11
• 發明（設計）人: 陳濤;陳衛祥;馬琳;孫虎;葉劍波;陳倩男;吳慶銀
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: H01M4/36
• 分類號: H01M4/36;B82Y30/00;B82Y40/00
• 代理公司: 杭州賽科專利代理事務所(普通合伙)33230
• 代理人: 馮年群

1.?一種多邊緣MoS₂納米片/石墨烯的復合納米材料，其特征在于，該復合納米材料是由少層數的多邊緣MoS₂納米片與石墨烯復合構成，所述多邊緣MoS₂納米片與石墨烯之間的物質的量之比為?1:1-1:4。

2.根據權利要求1所述的多邊緣MoS₂納米片/石墨烯的復合納米材料，其特征在于，所述多邊緣MoS₂納米片的層數為2~6層。

3.基于權利要求1的一種多邊緣MoS₂納米片/石墨烯的復合納米材料的制備方法,?其特征在于，所述制備方法按下述步驟進行：

（1）將氧化石墨烯超聲分散在去離子水中，然后加入適量離子液體1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸鹽([BMIM]BF₄)，并充分攪拌；

（2）然后將L-半胱氨酸和鉬酸鈉依次加入到步驟（1）得到的混合體系中，并不斷攪拌使L-半胱氨酸和鉬酸鈉完全溶解，L-半胱氨酸和鉬酸鈉用量的物質的量之比為5:1，鉬酸鈉與氧化石墨烯的物質的量之比為1:1~1:4;

（3）將步驟（2）得到的混合分散體系轉移到水熱反應釜中，并加入去離子水調整體積至水熱反應釜標稱體積的80%，水熱反應體系中離子液體的含量為5-25?mL/L，?將該反應釜密封后置于恒溫烘箱里，在240℃下水熱反應24?h后，讓其自然冷卻至室溫，用離心分離收集水熱固體產物，并用去離子水充分洗滌，在100?℃下真空干燥，將所得到的水熱固體產物在氮氣/氫氣混合氣氛中在500℃下熱處理2?h，混合氣體中氫氣的體積分數為10%，制備得到多邊緣MoS₂納米片/石墨烯的復合納米材料。