[發明專利]MoS2帶孔納米片/石墨烯復合納米材料及制備方法

有效

• 申請號: 201410339848.7
• 申請日: 2014-07-17
• 公開（公告）號: CN104103829A
• 公開（公告）日: 2014-10-15
• 發明（設計）人: 陳衛祥;葉劍波;馬琳;馬英杰
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: H01M4/58
• 分類號: H01M4/58;B82Y30/00;B82Y40/00
• 代理公司: 杭州賽科專利代理事務所 33230
• 代理人: 馮年群

1.一種MoS₂帶孔納米片/石墨烯的復合納米材料，其特征在于，該復合納米材料由MoS₂帶孔納米片與石墨烯復合構成，所述MoS₂帶孔納米片為單層或少層數的層狀結構，MoS₂帶孔納米片與石墨烯之間的物質的量之比為?1:1-1:3。

2.一種權利要求1所述MoS₂帶孔納米片/石墨烯的復合納米材料的制備方法,?其特征在于，所述制備方法按以下步驟進行：

（1）將氧化石墨烯超聲分散在去離子水中，然后加入陽離子型柱[5]芳烴超分子，并充分攪拌；

（2）然后將L-半胱氨酸和鉬酸鈉依次加入到步驟（1）得到的混合體系中，并不斷攪拌使L-半胱氨酸和鉬酸鈉完全溶解，L-半胱氨酸和鉬酸鈉用量的物質的量之比為5:1，鉬酸鈉與氧化石墨烯的物質的量之比為1:1-1:3;

（3）將步驟（2）得到的混合分散體系轉移到水熱反應釜中，并加入去離子水調整體積至水熱反應釜標稱體積的80%，陽離子型柱[5]芳烴超分子摩爾濃度為0.001-0.002?mol/L，氧化石墨烯的摩爾濃度為30-65?mmol/L,?將該反應釜放入恒溫烘箱里，在220-250℃下水熱反應20-24?h后，讓其自然冷卻至室溫，用離心分離收集水熱反應固體產物，并用去離子水充分洗滌，在100℃下真空干燥，將得到的水熱反應固體產物在氮氣/氫氣混合氣氛中在800℃下熱處理2?h，混合氣體中氫氣的體積分數為10%，最后制備得到MoS₂帶孔納米片/石墨烯的復合納米材料。