[發明專利]WS2帶孔納米片/石墨烯電化學貯鈉復合電極及制備方法

有效

• 申請號: 201410339847.2
• 申請日: 2014-07-17
• 公開（公告）號: CN104103834A
• 公開（公告）日: 2014-10-15
• 發明（設計）人: 陳衛祥;葉劍波;馬琳;王臻
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: H01M4/583
• 分類號: H01M4/583
• 代理公司: 杭州賽科專利代理事務所 33230
• 代理人: 馮年群

1.?一種WS_2-帶孔納米片/石墨烯電化學貯鈉復合電極,?其特征在于，所述復合電極的電化學貯鈉活性物質為WS_2-帶孔納米片/石墨烯的復合納米材料，復合納米材料中WS₂帶孔納米片和石墨烯的物質的量之比為1:1-1:3，所述WS₂帶孔納米片為少層數的層狀結構，所述復合電極的組分及其質量百分比含量為：WS₂帶孔納米片/石墨烯復合納米材料80%，乙炔黑10％，羧甲基纖維素5%，聚偏氟乙烯5％。

2.根據權利要求1所述WS_2-帶孔納米片/石墨烯電化學貯鈉復合電極,?其特征在于，所述WS₂帶孔納米片的層數為2~5層。

3.一種權利要求1或2所述WS_2-帶孔納米片/石墨烯電化學貯鈉復合電極的制備方法,?其特征在于，?制備方法按以下步驟進行：

（1）將氧化石墨烯超聲分散在去離子水中，加入陽離子型柱[5]芳烴超分子，并充分攪拌，然后依次加入L-半胱氨酸和硫代鎢酸銨，并不斷攪拌使L-半胱氨酸和硫代鎢酸銨完全溶解，L-半胱氨酸和硫代鎢酸銨用量的物質的量之比為5:1，硫代鎢酸銨與氧化石墨烯的物質的量之比在1:1-1:3；

（2）將步驟（1）得到的混合分散體系轉移到水熱反應釜中，并加入去離子水調整體積至水熱反應釜標稱體積的80%，陽離子型柱[5]芳烴超分子?的摩爾濃度為0.001~0.002?mol/L，氧化石墨烯的摩爾濃度為30-65?mmol/L,?將該反應釜放入恒溫烘箱里，在230-250?℃下水熱反應24?h后，讓其自然冷卻至室溫，用離心分離收集水熱反應固體產物，并用去離子水充分洗滌，在100℃下真空干燥，?將得到的水熱反應固體產物在氮氣/氫氣混合氣氛中在800℃下熱處理2?h，混合氣體中氫氣體積分數為10%，最后制備得到WS₂帶孔納米片/石墨烯的復合納米材料；

（3）將上述制備的WS₂帶孔納米片/石墨烯復合納米材料作為制備復合電極的電化學貯鈉活性物質，與乙炔黑、羧甲基纖維素及質量分數5%的聚偏氟乙烯的N-甲基吡咯烷酮溶液在攪拌下充分混合調成均勻的漿料，將該漿料均勻地涂到作為集流體的銅箔上，于110℃下真空干燥，滾壓得到WS₂帶孔納米片/石墨烯電化學貯鈉復合電極。