[發明專利]一種噴嘴清潔裝置及其清潔方法有效
| 申請號: | 201410339473.4 | 申請日: | 2014-07-16 |
| 公開(公告)號: | CN104128285A | 公開(公告)日: | 2014-11-05 |
| 發明(設計)人: | 張凡;余威 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | B05B15/02 | 分類號: | B05B15/02;B08B1/04;B08B3/12 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 噴嘴 清潔 裝置 及其 方法 | ||
【技術領域】
本發明涉及有機發光顯示器封裝領域,特別是涉及一種噴嘴清潔裝置及其清潔方法。
【背景技術】
目前,點膠機被廣泛運用于多個生產領域中,例如(OLED(Organic?Light?Emitting?Display,有機發光顯示器)封裝制程和LCD?CELL制程,都需使用點膠機來粘合玻璃基板;點膠機在使用一段時間后或待機時,其點膠噴嘴上會殘留膠水,殘留的膠水積累凝固會影響點膠精度,嚴重時會堵塞噴嘴。
由于OLED封裝制程是在氮氣環境下,現有技術中需在手套箱中進行更換噴嘴,將需要清潔的噴嘴組件采用手動方式進行清潔,費時費力,若清潔不徹底會影響制程調試,出現滴膠異常,影響產品質量。
綜上所述,現有技術存在以下問題,點膠機在使用過程中,不能及時有效地對其噴嘴進行自動清理及徹底清理,導致噴嘴滴膠不暢或堵塞,從而影響產品生產效率和產品質量。
【發明內容】
本發明的一個目的在于提供一種噴嘴清潔裝置,能夠進行自動清理及徹底清理,清理效果更好,使用更方便。
為解決上述技術問題,本發明構造了一種噴嘴清潔裝置,用于對工作臺的噴嘴進行清洗,所述工作臺上設置有機頭,所述噴嘴設置于所述機頭上;
所述清潔裝置包括:容腔;密封層,形成于所述容腔內,且平行于所述容腔底部,并與所述容腔底部形成一密封倉;
第一、第二支撐壁,形成于所述密封層上部,并相對設置,并與所述容腔的內壁形成一清洗槽,所述清洗槽用于放置清洗液;
第一固定桿,平行于所述密封層,一端固定連接所述容腔的內壁,另一端連接一第一承載部,所述第一承載部上方設置有第一馬達、與所述第一馬達連接的第一驅動軸承、與所述第一驅動軸承連接的第一旋轉軸及套設在所述第一旋轉軸上的第一清潔塊;
超聲波裝置,形成于所述密封倉內,包括超聲波發生器以及與所述超聲波發生器連接的超聲波換能器。
優選地,所述清潔裝置還包括第二固定桿,平行于所述密封層,一端固定連接所述容腔的內壁,另一端連接一第二承載部,所述第二承載部上方設置有第二馬達、與所述第二馬達連接的第二驅動軸承、與所述第二驅動軸承連接的第二旋轉軸及套設在所述第二旋轉軸上的第二清潔塊。
優選地,所述密封倉內設置有加熱裝置,所述加熱裝置包括加熱片以及與所述加熱片連接的加熱電路,所述加熱片貼合所述密封層底部。
優選地,所述容腔內設置一進液管道,所述進液管道從所述容腔外部穿過所述容腔側壁及所述第二支撐壁,并延伸至所述清洗槽。
優選地,所述第一清潔塊的截面為正三角形或正四邊形,所述第一清潔塊的截面垂直于所述容腔底部。
本發明的另一個目的在于提供一種使用噴嘴清潔裝置進行噴嘴清潔的方法,用于對工作臺的噴嘴進行清洗,所述工作臺上設置有機頭,所述噴嘴設置于所述機頭上;
所述清潔裝置包括:
容腔;
密封層,形成于所述容腔內,且平行于所述容腔底部,并與所述容腔底部形成一密封倉;
第一、第二支撐壁,形成于所述密封層上部,并相對設置,并與所述容腔的內壁形成一清洗槽,所述清洗槽用于放置清洗液;
第一固定桿,平行于所述密封層,一端固定連接所述容腔的內壁,另一端連接一第一承載部,所述第一承載部上方設置有第一馬達、與所述第一馬達連接的第一驅動軸承、與所述第一驅動軸承連接的第一旋轉軸及套設在所述第一旋轉軸上的第一清潔塊;
超聲波裝置,形成于所述密封倉內,包括超聲波發生器以及與所述超聲波發生器連接的超聲波換能器。
所述清潔方法包括:
所述機頭操縱所述噴嘴將噴嘴移至清洗裝置中,使得所述噴嘴與所述第一清潔塊接觸;
啟動所述第一馬達,所述第一馬達帶動第一驅動軸承轉動,所述第一驅動軸承帶動所述第一驅動軸承轉動,進而所述第一驅動軸承帶動所述所述第一清潔塊執行旋轉動作,摩擦噴嘴進行清理;
通過所述機頭將所述噴嘴移至所述清洗槽中,啟動所述超聲波裝置產生高頻振蕩對噴嘴進行清洗。
優選地,所述清潔裝置還包括第二固定桿,平行于所述密封層,一端固定連接所述容腔的內壁,另一端連接一第二承載部,所述第二承載部上方設置有第二馬達、與所述第二馬達連接的第二驅動軸承、與所述第二驅動軸承連接的第二旋轉軸及套設在所述第二旋轉軸上的第二清潔塊。
優選地,所述密封倉內設置有加熱裝置,所述加熱裝置包括加熱片以及與所述加熱片連接的加熱電路,所述加熱片貼合所述密封層底部。
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