[發(fā)明專利]一種基于介質(zhì)薄膜反射鏡的超導(dǎo)納米線單光子探測(cè)器

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410334718.4
• 申請(qǐng)日: 2014-07-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104091883A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-10-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李浩;尤立星;王鎮(zhèn)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所
• 主分類號(hào): H01L39/02
• 分類號(hào): H01L39/02;H01L39/10;G01J1/42
• 代理公司: 上海光華專利事務(wù)所 31219
• 代理人: 李儀萍

1.一種基于介質(zhì)薄膜反射鏡的超導(dǎo)納米線單光子探測(cè)器，其特征在于，包括：

襯底；

全介質(zhì)多層薄膜反射鏡，結(jié)合于所述襯底表面；

超導(dǎo)納米線，結(jié)合于所述全介質(zhì)多層薄膜反射鏡表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于介質(zhì)薄膜反射鏡的超導(dǎo)納米線單光子探測(cè)器，其特征在于：所述全介質(zhì)多層薄膜反射鏡包括交替層疊的SiO₂層與SiO層、交替層疊的SiO₂層與Si層、交替層疊的SiO₂層與TiO₂層、或者交替層疊的SiO₂層與Ta₂O₅層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于介質(zhì)薄膜反射鏡的超導(dǎo)納米線單光子探測(cè)器，其特征在于：所述超導(dǎo)納米線的材料包括NbN、Nb、TaN、NbTiN或WSi。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于介質(zhì)薄膜反射鏡的超導(dǎo)納米線單光子探測(cè)器，其特征在于：所述超導(dǎo)納米線為曲折蜿蜒形狀。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于介質(zhì)薄膜反射鏡的超導(dǎo)納米線單光子探測(cè)器，其特征在于：所述超導(dǎo)納米線的寬度為50～150納米。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于介質(zhì)薄膜反射鏡的超導(dǎo)納米線單光子探測(cè)器，其特征在于：所述超導(dǎo)納米線的厚度為5～10納米。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于介質(zhì)薄膜反射鏡的超導(dǎo)納米線單光子探測(cè)器，其特征在于：所述襯底包括硅襯底、MgO襯底或藍(lán)寶石襯底。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于介質(zhì)薄膜反射鏡的超導(dǎo)納米線單光子探測(cè)器，其特征在于：所述襯底的厚度為300～500微米。