[發明專利]一種電子印刷線路板蝕刻液在審
| 申請號: | 201410333670.5 | 申請日: | 2014-07-15 |
| 公開(公告)號: | CN104131283A | 公開(公告)日: | 2014-11-05 |
| 發明(設計)人: | 修建東;劉方旭 | 申請(專利權)人: | 煙臺恒迪克能源科技有限公司 |
| 主分類號: | C23F1/18 | 分類號: | C23F1/18 |
| 代理公司: | 無 | 代理人: | 無 |
| 地址: | 264760 山東省煙臺市高新區*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電子 印刷 線路板 蝕刻 | ||
技術領域
本發明涉及蝕刻液技術領域,尤指一種電子印刷線路板蝕刻液。
背景技術
在電子工業中,半導體的電氣互連和裝配必須依靠印刷線路板,印刷線路板使電路迷你化、直觀化,對于固定電路的批量生產和優化用電器布局起重要作用,印刷線路板的制作需要用到蝕刻液,酸性和堿性氯化銅蝕刻液在電子印刷線路板的制造過程中應用最廣,這類含氯離子的蝕刻液具有蝕刻速率穩定、蝕刻均勻、生產成本低等優點,但是由于“水池”效應,易生成含亞銅的銅絡合離子而無法避免側蝕。以硝酸為基礎的蝕刻液,側蝕程度較小,理論上講可以做到幾乎沒有側蝕。
發明內容
本發明一種電子印刷線路板蝕刻液,其特征在于,采用三水硝酸銅和硝酸作為電子印刷線路板蝕刻液的主成分,以檸檬酸鈉為螯合劑,以硫脲、烏洛托品、硫氰酸銨和表面活性劑作為電子印刷線路板蝕刻液的緩蝕劑和酸霧抑制劑,實現對電子印刷線路板蝕刻的線條接近垂直,側蝕程度微小之目的。
為了實現上述目的,本發明的技術解決方案為:一種電子印刷線路板蝕刻液包括以下質量份的原料:三水硝酸銅50~55份、硝酸20~27份、硫脲0.3~0.6份、烏洛托品0.2~0.5份、硫氰酸銨0.3~0.6份、表面活性劑0.2~0.3份、檸檬酸鈉0.3~0.5份、去離子水20~25份;?
進一步的,所述的表面活性劑是十二烷基硫酸鈉、十二烷基苯磺酸酸鈉、烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚中的一種或一種以上;
所述的硝酸是濃度為65%的濃硝酸。
本發明一種電子印刷線路板蝕刻液的制備方法是:向帶有攪拌器的容器中加入質量份為20~25份的去離子水,將質量份為20~27份的硝酸緩慢加入到去離子水中,開啟攪拌,進行酸液稀釋,向稀釋后的酸液中,依次加入質量份為50~55份的三水硝酸銅、質量份為0.3~0.6份的硫脲、質量份為0.2~0.5份的烏洛托品、質量份為0.3~0.6份的硫氰酸銨、質量份為0.2~0.3份的表面活性劑、質量份為0.3~0.5份的檸檬酸鈉,以轉速100轉/分鐘進行攪拌分散0.5小時,停止攪拌,出料即得所述的電子印刷線路板蝕刻液。
使用時,將電子印刷線路板蝕刻液與去離子水按照質量比1﹕8~9的比例進行稀釋,于40~50℃條件下對電子印刷線路板進行蝕刻。
本發明的優點和特點是:采用三水硝酸銅和硝酸作為電子印刷線路板蝕刻液的主成分,以檸檬酸鈉為螯合劑,以硫脲、烏洛托品、硫氰酸銨和表面活性劑作為電子印刷線路板蝕刻液的緩蝕劑和酸霧抑制劑,達到對電子印刷線路板蝕刻的線條接近垂直,側蝕程度微小的效果。
具體實施方式
實施例1?
一種電子印刷線路板蝕刻液包括以下質量份的原料:三水硝酸銅5200克、65%濃度的硝酸2300克、硫脲50克、烏洛托品30克、硫氰酸銨40克、十二烷基硫酸鈉表面活性劑25克、檸檬酸鈉40克、去離子水2300克;
其制備方法是:向帶有攪拌器的容器中加入質量份為2300克的去離子水,將質量份為2300克65%濃度的硝酸緩慢加入到去離子水中,開啟攪拌,進行酸液稀釋,向稀釋后的酸液中,依次加入質量份為5200克的三水硝酸銅、質量份為50克的硫脲、質量份為30克的烏洛托品、質量份為40克的硫氰酸銨、質量份為25克的十二烷基硫酸鈉表面活性劑、質量份為40克的檸檬酸鈉,以轉速100轉/分鐘進行攪拌分散0.5小時,停止攪拌,出料即得所述的電子印刷線路板蝕刻液。
實施例2?
一種電子印刷線路板蝕刻液包括以下質量份的原料:三水硝酸銅5000克、硝酸2000克、硫脲30克、烏洛托品50克、硫氰酸銨30克、烷基酚聚氧乙烯醚表面活性劑20克、檸檬酸鈉60克、去離子水2100克;
其制備方法是:向帶有攪拌器的容器中加入質量份為2000克的去離子水,將質量份為2100克的硝酸緩慢加入到去離子水中,開啟攪拌,進行酸液稀釋,向稀釋后的酸液中,依次加入質量份為5000克的三水硝酸銅、質量份為30克的硫脲、質量份為50克的烏洛托品、質量份為30克份的硫氰酸銨、質量份為20克份的烷基酚聚氧乙烯醚表面活性劑、質量份為60克份的檸檬酸鈉,以轉速100轉/分鐘進行攪拌分散0.5小時,停止攪拌,出料即得所述的電子印刷線路板蝕刻液。
實施例3?
一種電子印刷線路板蝕刻液包括以下質量份的原料:三水硝酸銅5500克、硝酸2700克、硫脲60克、烏洛托品20克、硫氰酸銨60克、十二烷基苯磺酸酸鈉10克、脂肪醇聚氧乙烯醚中表面活性劑20克、檸檬酸鈉30克、去離子水2500克;
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