[發明專利]磺酰光酸產生劑和包含該磺酰光酸產生劑的光刻膠有效
| 申請號： | 201410333321.3 | 申請日： | 2010-12-14 |
| 公開（公告）號： | CN104130172A | 公開（公告）日： | 2014-11-05 |
| 發明（設計）人： | 劉驄;C-B·徐 | 申請（專利權）人： | 羅門哈斯電子材料有限公司 |
| 主分類號： | C07C381/12 | 分類號： | C07C381/12;C07D307/93;C07D519/00;C07J31/00;C07D333/46;C07C317/44;G03F7/039;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 陳哲鋒 |
| 地址： | 美國馬*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 磺酰光酸 產生 包含 光刻 | ||
1.一種如下式Ⅰ所示的光酸產生劑化合物：
其中W,Y相互獨立地為氫、氟、任選取代的氟烷基；任選取代的氟烷氧基；或任選取代的氟代碳環芳基；
W’,Y’相互獨立地為與W，Y相同基團；
W”,Y”相互獨立地為與W，Y相同基團；
n,n’和n”各自相同或不同，并且分別為正整數；
U，U’和U”各自相同或不同，并且分別為連接基團；
R,R’和R”各自相同或不同，并且分別為任選取代的碳脂環基團，任選取代的雜脂環基團，任選取代的碳環芳基，或任選取代的雜芳香族基團；
X+是反離子。
2.一種如下式Ⅱ所示的光酸產生劑化合物：
其中W,Y相互獨立地為氫、氟、任選取代的氟烷基；任選取代的氟烷氧基；或任選取代的氟代碳環芳基；
W’,Y’相互獨立地為與W，Y相同基團；
n和n’各自相同或不同，并且分別為正整數；
U，U’和U”各自相同或不同，并且分別為連接基團；
R和R’各自相同或不同，并且分別為任選取代的碳脂環基團，任選取代的雜脂環基團，任選取代的碳環芳基，或任選取代的雜芳香族基團；
X+是反離子。
3.權利要求1或2的光酸產生劑，其中X+是锍或碘鎓化合物。
4.權利要求1或2的光酸產生劑，其中X+為下列式中之一：
其中，R1到R5相互獨立的為任選取代的C1-30烷基，或取代的或未取代的碳環芳基團，或R1,R2和R3中的任意兩個或多個可連接在一起與硫環形成環。
5.權利要求1或2的光酸產生劑化合物，其中X+為下列任意基團：
其中，那些式中的P1,P2,P3,P4,P5,P6和P7相互獨立的表示氫或1到5非氫取代基。
6.權利要求1或2的光酸產生劑，其選自：
其中，那些式中的P1,P2,P3,P4,P5,P6和P7相互獨立的表示氫或1到5非氫取代基。
7.一種光刻膠組合物，所述組合物包括權利要求1到6任意之一的光酸產生劑化合物。
8.一種形成光刻膠浮雕圖像的方法，所述方法包括：
a)在基材上涂布權利要求7所述的光刻膠組合物的涂層；
b)將光抗蝕劑涂層曝光于活性輻射，對曝光后的光刻膠涂層顯影以提供浮雕圖像。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于羅門哈斯電子材料有限公司，未經羅門哈斯電子材料有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410333321.3/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
