[發明專利]氣體濃度計算裝置及氣體濃度測量模塊有效
| 申請號： | 201410331121.4 | 申請日： | 2011-02-14 |
| 公開（公告）號： | CN104111233B | 公開（公告）日： | 2017-09-15 |
| 發明（設計）人： | 井澤利之;村上忠良 | 申請（專利權）人： | 浜松光子學株式會社 |
| 主分類號： | G01N21/3504 | 分類號： | G01N21/3504;G01N21/05 |
| 代理公司： | 北京尚誠知識產權代理有限公司11322 | 代理人： | 楊琦 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氣體 濃度 計算 裝置 測量 模塊 | ||
1.一種氣體濃度計算裝置，其特征在于，
其是具備氣體濃度測量模塊及氣體濃度計算模塊且計算對象氣體的濃度的氣體濃度計算裝置，
所述氣體濃度測量模塊具備：
氣室，形成導入所述對象氣體的導入空間；
光源，其配置于所述氣室內；
旋轉機構，其配置于所述氣室的一端，且通過旋轉使自所述光源放射的光反射或透過；及
受光單元，其是一個受光元件，配置于所述氣室的另一端，且接收自所述光源直接放射且穿過所述氣室的直接光、及自所述光源放射并且通過所述旋轉機構反射而穿過所述氣室的反射光這兩者，
所述氣體濃度計算模塊基于通過所述旋轉機構使所述光反射或透過的各情況下的所述受光單元的受光能量值的比，來計算所述對象氣體的所述濃度，
所述旋轉機構在與自所述光源直至所述受光單元為止的光路的方向不同的方向上進行所述旋轉，
并且所述旋轉機構為由反射板與孔構成的旋轉鏡，所述旋轉鏡在與自所述光源直至所述受光單元為止的所述光路的方向大致垂直的方向上進行所述旋轉。
2.如權利要求1所述的氣體濃度計算裝置，其特征在于，
進一步具備帶通濾波器，該帶通濾波器配置于所述光源與所述受光單元之間的光路上，且僅使規定波長的光通過。
3.如權利要求1所述的氣體濃度計算裝置，其特征在于，
所述光源為放射紅外線的光源。
4.如權利要求1所述的氣體濃度計算裝置，其特征在于，
所述對象氣體為二氧化碳。
5.如權利要求1所述的氣體濃度計算裝置，其特征在于，
進一步具備儲存單元，該儲存單元預先儲存表示所述對象氣體的所述濃度與通過所述旋轉機構使所述光反射或透過的各情況下的所述受光單元的受光能量值的比的相關關系的數據庫或近似式，
所述氣體濃度計算模塊基于所述數據庫或所述近似式來計算與通過所述旋轉機構使所述光反射或透過的各情況下的所述受光單元的受光能量值的比相對應的所述濃度。
6.如權利要求1所述的氣體濃度計算裝置，其特征在于，
具備：
所述氣體濃度測量模塊，其具備所述對象氣體不同的多個所述受光單元；及
多個所述氣體濃度計算模塊，其與多個所述受光單元相對應。
7.一種氣體濃度測量模塊，其特征在于，
其是計算對象氣體的濃度的氣體濃度計算裝置中的氣體濃度測量模塊，
具備：
氣室，其形成導入所述對象氣體的導入空間；
光源，其配置于所述氣室內；
旋轉機構，其配置于所述氣室的一端，且通過旋轉使自所述光源放射的光反射或透過；及
受光單元，其是一個受光元件，配置于所述氣室的另一端，且接收自所述光源直接放射且穿過所述氣室的直接光、及自所述光源放射并且通過所述旋轉機構反射而穿過所述氣室的反射光這兩者，
所述旋轉機構在與自所述光源直至所述受光單元為止的光路的方向不同的方向上進行所述旋轉，
并且所述旋轉機構為由反射板與孔構成的旋轉鏡，所述旋轉鏡在與自所述光源直至所述受光單元為止的所述光路的方向大致垂直的方向上進行所述旋轉。
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