[發明專利]一種內雕刻拼接方法及裝置

有效

• 申請號: 201410331025.X
• 申請日: 2014-07-11
• 公開（公告）號: CN104085236B
• 公開（公告）日: 2017-04-12
• 發明（設計）人: 楊興剛
• 申請（專利權）人: 武漢森托尼激光有限公司
• 主分類號: B44B1/00
• 分類號: B44B1/00;B44B3/00;B44C3/12;B44C5/00
• 代理公司: 北京華沛德權律師事務所11302
• 代理人: 劉杰

1.一種內雕刻拼接方法，應用于一內雕設備，其中，所述方法包括：

獲得一原始圖形；

獲得所述原始圖形的點陣列；

將所述點陣列至少分成第一塊和第二塊，其中所述內雕設備在所述第一塊和所述第二塊上進行內雕刻；

獲得所述第一塊和所述第二塊之間的相鄰區域；

將所述相鄰區域設定為所述第一塊和所述第二塊的切割區域，其中，所述切割區域包括不規則切割線。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲得所述原始圖形的點陣列具體為：

采用點云軟件獲得所述原始圖像的點陣列。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

所述切割區域包括第一切割區域和第二切割區域，其中，

所述第一塊包括第一切割區域；

所述第二塊包括第二切割區域；其中，

所述第一切割區域和所述第二切割區域均為不規則區域，且，所述第一切割區域和所述第二切割區域相配合。

4.一種內雕刻拼接裝置，其中，所述裝置包括：

第一獲得單元，所述第一獲得單元用于獲得一原始圖形；

第二獲得單元，所述第二獲得單元用于獲得所述原始圖形的點陣列；

第一處理單元，所述第一處理單元將所述點陣列至少分成第一塊和第二塊，其中所述內雕設備在所述第一塊和所述第二塊上進行內雕刻；

第三獲得單元，所述第三獲得單元用于獲得所述第一塊和所述第二塊之間的相鄰區域；

第二處理單元，所述第二處理單元將所述相鄰區域設定為所述第一塊和所述第二塊的切割區域，其中，所述切割區域包括不規則切割線。

5.如權利要求4所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：

第四獲得單元，所述第四獲得單元用于采用點云軟件獲得所述原始圖像的點陣列。

6.如權利要求4所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：

所述切割區域包括第一切割區域和第二切割區域，其中，

所述第一塊包括第一切割區域；

所述第二塊包括第二切割區域；其中，

所述第一切割區域和所述第二切割區域均為不規則區域，且，所述第一切割區域和所述第二切割區域相配合。