[發(fā)明專利]一種釹鐵硼磁體的涂覆方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410326859.1 | 申請日: | 2014-07-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104148256A | 公開(公告)日: | 2014-11-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高政 | 申請(專利權(quán))人: | 北京京磁電工科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | B05D1/12 | 分類號(hào): | B05D1/12;C09D1/00;C09D5/10;C09D7/12 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 趙青朵 |
| 地址: | 101204 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 釹鐵硼 磁體 方法 | ||
1.一種用于釹鐵硼磁體涂覆的鋅鋁涂液,其特征在于,包括:
所述氧化物為氧化鎂和/或二氧化錫。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鋅鋁涂液,其特征在于,所述鋅為鱗片狀鋅粉,所述鋅粉的粒度為3.2~6.0μm;所述鋁為鱗片狀鋁粉,所述鋁粉的粒度為3.2~6.0μm;
所述有機(jī)溶劑為聚乙二醇、正丁醇、乙二醇、丙三醇和異丙醇中的一種或多種。
3.一種釹鐵硼磁體的涂覆方法,其特征在于,包括以下步驟:
A)在釹鐵硼磁體表面噴涂權(quán)利要求1~2任意一項(xiàng)所述的鋅鋁涂液,得到涂覆后的釹鐵硼磁體。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂覆方法,其特征在于,所述噴涂的速度為0.05~0.15m/s;所述噴涂的噴涂角度為70°~90°;
所述噴涂扇形面的圓心角為30°~50°。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂覆方法,其特征在于,所述噴涂的壓力為0.3~0.5Mpa;所述噴涂的高度為40~45cm。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂覆方法,其特征在于,所述步驟A)具體為:
A1)在釹鐵硼磁體表面噴涂權(quán)利要求1~2任意一項(xiàng)所述的鋅鋁涂液后,得到涂覆中間體;
A2)將上述步驟得到涂覆中間體再次噴涂有機(jī)涂液后,得到涂覆后的釹鐵硼磁體;
所述有機(jī)涂液包括:鋁粉、有機(jī)硅改性的環(huán)氧樹脂、聚酰胺樹脂、甲醚化氨基樹脂以及有機(jī)溶劑。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的涂覆方法,其特征在于,所述鋁粉的質(zhì)量濃度為150~200g/L;所述有機(jī)硅改性的環(huán)氧樹脂的濃度為450~600ml/L;所述聚酰胺樹脂的濃度為300~500ml/L;所述甲醚化氨基樹脂的濃度為300~500ml/L;所述有機(jī)溶劑為乙醇、乙二醇、丙三醇和異丙醇中的一種或多種。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的涂覆方法,其特征在于,所述再次噴涂的噴涂速度為0.05~0.15m/s;所述再次噴涂的噴涂角度為70°~90°;所述再次噴涂的噴涂扇形面的圓心角為30°~50°;所述再次噴涂的噴涂壓力為0.3~0.5Mpa;所述再次噴涂的噴涂高度為20~45cm。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂覆方法,其特征在于,所述步驟A)之前,還包括對釹鐵硼磁體表面進(jìn)行清潔;
所述清潔的步驟包括:脫脂除油、除銹、水洗和烘干。
10.一種經(jīng)過涂覆處理的釹鐵硼磁體,其特征在于,由釹鐵硼磁體及其表面的涂覆層組成;
所述涂覆層由權(quán)利要求1~2任意一項(xiàng)所述的鋅鋁涂液和有機(jī)涂液涂覆后形成。
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