[發明專利]一種超純氫氣發生器

有效

• 申請號: 201410326347.5
• 申請日: 2014-07-08
• 公開（公告）號: CN104760933B
• 公開（公告）日: 2018-02-02
• 發明（設計）人: 劉小利
• 申請（專利權）人: 蘇州寶晶新材料科技有限公司
• 主分類號: C01B3/56
• 分類號: C01B3/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種超純氫氣生產方法，該方法使用超純氫氣發生器，其特征在于：超純氫氣發生器包括氫氣產生裝置(9)、第一電磁閥(4)、第二電磁閥(2)、金屬氫化物儲氫器組(3、6)、增壓泵(8)、通斷電磁閥(7)和減壓閥(1)；

其中，所述第一電磁閥(4)和第二電磁閥(2)均為二位三通直動式電磁閥，包括端口A和端口B、端口C；

所述氫氣產生裝置(9)的輸出端通過增壓泵(8)、通斷電磁閥(7)和管道連接第一電磁閥(4)的端口A，

所述第一電磁閥(4)和第二電磁閥(2)之間設有金屬氫化物儲氫器組(3、6)，所述金屬氫化物儲氫器組(3、6)包括第一金屬氫化物儲氫器(3)和第二金屬氫化物儲氫器(6)，二者并聯設置，其中第一金屬氫化物儲氫器(3)連接第一電磁閥(4)的端口B和第二電磁閥(2)的端口C，第二金屬氫化物儲氫器(6)連接第一電磁閥(4)的端口C和第二電磁閥(2)的端口B；

所述第二電磁閥(2)的輸出端即端口A連通減壓閥(1)后連接使用氫氣的系統(5)；所述氫氣產生裝置(9)型號為QL-2000；所述金屬氫化物儲氫器組(3、6)的型號都為CHM-50S；所述第一電磁閥(4)和第二電磁閥(2)的型號為ZC2/3-40P DN10；所述減壓閥(1)為單級式膜片減壓結構，型號為RW11LGFGG0000；所述增壓泵(8)為氣動增壓泵；

所述方法包括步驟：

步驟一：氧氣、氫氣及其雜質氣體在氫氣產生裝置中產生，氧氣從氫氣產生裝置的的一端口排出，氫氣及其雜質氣體則從另一端口排出進入管道，此時第一電磁閥(4)處于關閉狀態，第一電磁閥(4)的端口A與端口B連接，氫氣及其雜質氣體進入第一金屬氫化物儲氫器(3)；

步驟二：第二電磁閥(2)處于關閉狀態，第二電磁閥(2)的端口A與端口B連接，使用氫氣的系統(5)接收第二金屬氫化物儲氫器(6)釋放的超純氫氣；

步驟三：當第一金屬氫化物儲氫器(3)儲存滿氫氣及其雜質氣體時，關閉通斷電磁閥(7)，第一金屬氫化物儲氫器(3)排放雜質氣體， 在排放完雜質氣體后，打開第一電磁閥(4)，第一電磁閥(4)端口A與端口C連接，第一金屬氫化物儲氫器(3)停止注入氫氣及其雜質氣體，打開通斷電磁閥(7)，氫氣產生裝置(9)開始往第二金屬氫化物儲氫器(6)中注入氫氣及其雜質氣體，同時打開第二電磁閥(2)，第二電磁閥(2)端口A與端口C連接，氫氣從第一金屬氫化物儲氫器(3)端口排出，經過減壓閥(1)，進入使用氫氣的系統(5)；

步驟四：當第二金屬氫化物儲氫器(6)儲存滿氫氣及其雜質氣體時，關閉通斷電磁閥(7)，排放第二金屬氫化物儲氫器(6)中的雜質氣體后；

步驟五：再打開通斷電磁閥(7)并關閉第一電磁閥(4)，氫氣及其雜質氣體注入第一金屬氫化物儲氫器(3)，同時關閉第二電磁閥(2)，第二金屬氫化物儲氫器(6)中氫氣排出，進入使用氫氣的系統(5)。