[發明專利]超疏水聚四氟乙烯薄膜及其微納米壓印制備方法與應用在審
| 申請號： | 201410323343.1 | 申請日： | 2014-07-08 |
| 公開（公告）號： | CN104191602A | 公開（公告）日： | 2014-12-10 |
| 發明（設計）人： | 鐘敏霖;龔鼎為;張紅軍;龍江游;范培迅 | 申請（專利權）人： | 清華大學 |
| 主分類號： | B29C59/02 | 分類號： | B29C59/02 |
| 代理公司： | 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245 | 代理人： | 關暢 |
| 地址： | 100084 北京市海淀區北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 疏水 聚四氟乙烯 薄膜 及其 納米 壓印 制備 方法 應用 | ||
【權利要求書】：
1.一種聚四氟乙烯薄膜表面的微納米壓印方法，包括如下步驟：
將聚四氟乙烯薄膜置于具有類荷葉微納米結構的金屬模具上進行熱壓，熱壓完畢后卸壓冷卻至室溫，將所述聚四氟乙烯薄膜從所述金屬模具表面分離，完成所述聚四氟乙烯薄膜表面的微納米壓印方法。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述聚四氟乙烯薄膜的厚度為0.05-5mm，具體為0.1-1mm。
3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于：所述熱壓步驟中，溫度為20～380℃，具體為130℃；壓力為0-12噸，具體為5-6噸；時間為1-30分鐘，具體為15分鐘。
4.權利要求1-3任一所述方法得到的具有微納米凸起結構的聚四氟乙烯薄膜。
5.根據權利要求4所述的薄膜，其特征在于：所述微納米凸起結構的形狀為圓形，直徑為12～15μm，高度為20～25μm；所述微米級凸起呈蜂窩狀密集分布，所述微米級凸起之間的間距為20～25μm。
6.根據權利要求4或5所述的薄膜，其特征在于：所述微納米凸起上具有納米級亞結構；
所述納米級亞結構的形狀為絲狀，直徑具體為50～700nm。
7.權利要求4-6任一所述具有微納米凸起的聚四氟乙烯薄膜在超疏水中的應用。
8.權利要求4-6任一所述具有微納米凸起的聚四氟乙烯薄膜在制備超疏水材料中的應用。
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