[發明專利]密封裝置

有效

• 申請號: 201410323061.1
• 申請日: 2014-07-08
• 公開（公告）號: CN104279332A
• 公開（公告）日: 2015-01-14
• 發明（設計）人: 小山文利
• 申請（專利權）人: 株式會社電裝;株式會社愛德克斯
• 主分類號: F16J15/16
• 分類號: F16J15/16
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 田軍鋒;俠暉霞

技術領域

本發明涉及密封裝置，其包括由彈性材料制成并且適于在兩個構件之間進行密封的密封件。

背景技術

日本實用新型公報No.7-37845所公開的已知技術采用由彈性材料制成的圓形密封件(被稱為O形環)以在第一構件與第二構件之間進行密封，該第一構件包括形成在其中的圓形孔，該第二構件插入第一構件的孔中。

在公開的密封裝置中，當圓形密封件座置在第二構件的凹槽中時，圓形密封件的內周與第二構件之間的接觸壓力圍繞密封件的整個內周是大致均勻的，其中，密封件的整個內周與第二構件相接觸。

能夠設想包括非圓形密封件J7的其他密封裝置，該非圓形密封件J7由兩個直部J700和兩個弧狀部J701形成，該兩個弧狀部在它們的端部處連接兩個直部J700，如圖9和圖10所示。當非圓形密封件J7座置在第二構件J6的凹槽J61中時，每個直部J700的內周與第二構件J6之間未施加接觸壓力，換言之，每個直部J700的內周不與第二構件J6相接觸，而較高的接觸壓力施加在每個弧狀部J701的內周與第二構件36之間。

因而，在第二構件J6和座置在第二構件J6的凹槽J61中的密封件J7的組件插入第一構件J1的非圓形孔J11期間，密封件J7的每個直部J700的外周與第一構件J1的限定孔J11的壁J110相接觸并可以因而被扭曲，而由于相對較高的接觸壓力施加在每個弧狀部J701的內周與第二構件J6之間，每個弧狀部J701保持不被扭曲。因而，直部J700和弧狀部J701二者之間不同地被扭曲，這導致第一構件J1與第二構件J6之間的密封性能的下降。

鑒于上述情況，本發明的示例性實施方式涉及提供一種包括非圓形密封件的密封裝置，該密封裝置能夠防止兩個構件之間的密封性能的下降。

發明內容

根據本發明的示例性實施方式，提供了密封裝置，該密封裝置包括：第一構件，該第一構件中形成有非圓形孔；第二構件，該第二構件具有圍繞第二構件的外周連續延伸的非圓形且環形的凹槽；以及密封件，該密封件由彈性材料制成并且座置在凹槽中以在第一構件與第二構件之間進行密封。該密封件包括非圓形且環形的本體，使得該本體的外周與第一構件的限定第一構件的非圓形孔的壁相接觸，而本體的內周與第二構件的限定凹槽的壁相接觸。該密封件還包括至少一個突出部，至少一個突出部沿第二構件插入到第一構件中的方向、從本體的下述至少一部分突出：在該至少一部分處，在本體與第二構件的凹槽之間施加有相對較低的接觸壓力。

在第二構件插入第一構件期間，扭曲力會施加至密封件的本體的下述部分：在該部分處，相對較低的接觸壓力施加在密封件的本體與第二構件的凹槽之間。通過上述構型，突出部將在第二構件插入第一構件期間與第一構件的限定第一構件的非圓形孔的壁相接觸，這能夠防止密封件的所述部分被扭曲。這能夠防止第一構件與第二構件之間的密封性能的下降。

附圖說明

圖1是根據本發明的一個實施方式的應用有密封裝置的制動流體壓力控制單元的主視圖；

圖2是圖1中所示的制動流體壓力控制單元的仰視圖；

圖3是圖1中所示的蓋的主視圖；

圖4是圖3中所示的蓋的沿線A-A截取的截面圖；

圖5是圖3中所示的蓋的俯視圖；

圖6是圖1中所示的密封件的俯視圖；

圖7是圖6中所示的密封件的沿線C-C截取的截面圖；

圖8是圖3中所示的密封裝置的原理部分的局部截面圖；

圖9是根據現有技術的密封裝置中的第二構件和密封件的組件的截面圖；以及

圖10是圖9中所示的密封構件的沿線D-D截取的局部截面圖。

具體實施方式

在下面的詳細描述中，參照了附圖，附圖以示例的方式展示了可以實施本發明的具體實施方式。對這些實施方式進行了足夠詳細的描述以使本領域技術人員能夠實施本發明。應理解本發明的多種實施方式盡管有所不同，但不一定是互相排他的。例如，在不脫離本發明的精神和范圍的情況下，下面結合一個實施方式描述的特定特征、結構或特性可以在其他實施方式內實施。此外，應理解在不脫離本發明的精神和范圍的情況下，可以對每個公開的實施方式內的各個元件的位置或布置進行修改。因此，下面的詳細描述不出于限制目的，并且本發明的范圍僅通過適當解釋的所附權利要求及權利要求所要求保護的等同物的全部范圍來限定。在所有這些附圖中，相同的附圖標記指示相同或相似的功能。