[發明專利]一種玻璃基板的偏差檢測和修正方法

有效

• 申請號: 201410319287.4
• 申請日: 2014-07-07
• 公開（公告）號: CN105278266B
• 公開（公告）日: 2018-03-02
• 發明（設計）人: 陳海華;韓傳有;章磊
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237
• 代理人: 屈蘅

1.一種玻璃基板的偏差檢測和修正方法，其特征在于，包括：

步驟一、對方形基板進行涂膠曝光顯影操作，所述曝光時，利用具有十字型、斜十字型或米字型中任一組成的掩模圖形以形成一曝光標記；

步驟二、將所述方形基板經過曝光裝置預對準之后放置于工件臺上，并探測所述曝光標記；

步驟三、將所述工件臺分別按x軸方向和y軸方向移動直至所述方形基板的y軸向邊緣和x軸向邊緣，所述工件臺的移動距離分別記為第一橫向距離L₁、第二橫向距離L₂、第一軸向距離L₃、第二軸向距離L₄；根據所述第一橫向距離L₁、第二橫向距離L₂、第一軸向距離L₃、第二軸向距離L₄以及所述方形基板的尺寸，計算所述y軸向邊緣的偏向值θ₁和偏心值Δx，所述x軸向邊緣的偏向值θ₂和偏心值Δy；其中θ₁≈θ₂，取最終得出偏心坐標值Δx和Δy和偏向值θ，實現所述方形基板偏移再次修正。

2.如權利要求1所述的玻璃基板的偏差檢測和修正方法，其特征在于，所述步驟一進一步包括：在所述方形基板上曝出四個不同位置的所述曝光標記；四個所述曝光標記的中心名義坐標值分別為(x₁,y₁)、(x₂,y₂)、(x₃,y₃)和(x₄,y₄)，其中x₁＝x₂，y₁＝–y₂，x₃＝–x₄，y₃＝y₄。

3.如權利要求1所述的玻璃基板的偏差檢測和修正方法，其特征在于，所述步驟一進一步包括：在所述方形基板上曝出三個不同位置的所述曝光標記，三個所述曝光標記的中心名義坐標值分別為(x₁,y₁)、(x₂,y₂)和(x₃,y₃)，其中x₁＝x₂＝–x₃，y₁＝–y₂＝﹣y₃。

4.如權利要求1所述的玻璃基板的偏差檢測和修正方法，其特征在于，所述步驟一進一步包括：在所述方形基板上曝出兩個不同位置的所述曝光標記，兩個所述曝光標記的中心名義坐標值分別為(x₁,0)和(0,y₁)。

5.如權利要求1所述的玻璃基板的偏差檢測和修正方法，其特征在于，所述步驟一進一步包括：在所述方形基板上曝出一個所述曝光標記，該所述曝光標記的中心名義坐標值為(0,0)。