[發(fā)明專利]化學鍍鎳磷合金的方法、鍍液及鎳磷合金層在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410317528.1 | 申請日: | 2014-07-04 |
| 公開(公告)號: | CN104561951A | 公開(公告)日: | 2015-04-29 |
| 發(fā)明(設計)人: | 張雙慶;胡鋼 | 申請(專利權)人: | 廣東丹邦科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/36 | 分類號: | C23C18/36;C23C18/18 |
| 代理公司: | 深圳新創(chuàng)友知識產(chǎn)權代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀純 |
| 地址: | 523808 廣東省東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 化學 鍍鎳磷 合金 方法 | ||
1.一種化學鍍鎳磷合金的鍍液,用于在柔性印制電路板表面化學鍍鎳磷合金層,其特征在于,包括以下組分:
次磷酸鹽,2~50g/L;
鎳鹽,1~30g/L;
絡合劑,1~100g/L;
可釋放甲醛的添加劑,0.001~1g/L。
2.如權利要求1所述的鍍液,其特征在于:還包括作為表面活性劑的十二烷基硫酸鈉,且濃度范圍為1~3g/L。
3.如權利要求1所述的鍍液,其特征在于:還包括濃度范圍為0.05~5mg/L的鍍液穩(wěn)定劑,用于防止所述次磷酸鹽自發(fā)分解。
4.如權利要求3所述的鍍液,其特征在于:所述鍍液穩(wěn)定劑選自含鋅離子、鉛離子、錫離子、鎘離子或鉍離子的無機鹽,硫脲,硫代硫酸鈉,碘酸鹽,以及鉬酸鹽中的一種或兩種以上,且濃度范圍為0.1~2mg/L。
5.如權利要求1所述的鍍液,其特征在于:所述可釋放甲醛的添加劑選自羥甲基甘氨酸鈉、咪唑烷基脲、重氮咪唑烷基脲、1,3-二羥甲基-5,5-二甲基乙內酰脲、2-溴-2-硝基-1,3-丙二醇以及氯化3-氯烯丙基六亞甲基四胺中的一種或兩種以上。
6.如權利要求1所述的鍍液,其特征在于:所述次磷酸鹽選自次磷酸鈉、次磷酸鉀以及次磷酸銨中的一種,且濃度范圍為10~40g/L。
7.如權利要求1所述的鍍液,其特征在于:所述鎳鹽選自硫酸鎳、醋酸鎳、硝酸鎳中的一種,且濃度范圍為5~15g/L。
8.如權利要求1所述鍍液,其特征在于:所述絡合劑選自至少含有一個羧基的有機酸及其鈉鹽、鉀鹽、銨鹽中的一種或兩種以上,且濃度范圍為5~50g/L。
9.如權利要求8所述的鍍液,其特征在于:所述至少含有一個羧基的有機酸包括乙酸、丙二酸、丁二酸、檸檬酸、羥基乙酸、乳酸、酒石酸、蘋果酸、2,3-二羥基琥珀酸、甘氨酸、2-胺基丙酸、半胱氨酸以及乙二胺四乙酸。
10.一種化學鍍鎳磷合金的方法,用以在柔性印制電路板表面化學鍍鎳磷合金層,其特征在于,包括將柔性印制電路板浸入如權利要求1至11任一項所述的鍍液中進行化學鍍的步驟。
11.如權利要求10所述的方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、酸洗和活化:施鍍前將所述柔性印制電路板浸入酸性清洗劑里清洗,然后浸入硫酸溶液中進行微蝕活化;
S2、置換:將活化后的所述柔性印制電路板浸入酸性含鈀的溶液中,以在銅線路表面置換出具有催化性的鈀的晶種;
S3、施鍍:將經(jīng)步驟S2處理后的所述柔性印制電路板浸入所述的鍍液中。
12.如權利要求10所述的方法,其特征在于:所述步驟S3還包括PH值調節(jié),具體為:反應過程中在所述鍍液中加入PH值緩沖劑,以保證所述鍍液的PH值維持在3~6,所述緩沖劑濃度范圍為1~25g/L。
13.如權利要求12所述的方法,其特征在于:所述PH值緩沖劑為乙酸、硼酸、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氨水或碳酸,且濃度范圍為3~18g/L,以在反應過程中保持所述鍍液的PH值為4~4.5。
14.如權利要求10所述的方法,其特征在于:所述步驟S3中,所述鍍液溫度為45~90℃,所述柔性印制電路板浸入所述鍍液中1~60分鐘。
15.一種鎳磷合金層,鍍于柔性印制電路板的表面,其特征在于:采用如權利要求1至9任一項所述的鍍液進行化學鍍所制得。
16.如權利要求15所述的鎳磷合金層,其特征在于:鍍層厚度為0.5~5μm,其中磷的含量在3~12wt%之間。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產(chǎn)物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





