[發(fā)明專(zhuān)利]一種雙面半導(dǎo)體器件的QFN封裝結(jié)構(gòu)及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410315879.9 | 申請(qǐng)日: | 2014-07-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104064533A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-09-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 倪俠 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 江蘇東光微電子股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L23/31 | 分類(lèi)號(hào): | H01L23/31;H01L21/56 |
| 代理公司: | 南京天華專(zhuān)利代理有限責(zé)任公司 32218 | 代理人: | 夏平 |
| 地址: | 214205 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 雙面 半導(dǎo)體器件 qfn 封裝 結(jié)構(gòu) 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體器件設(shè)計(jì)及制造領(lǐng)域,具體是一種雙面半導(dǎo)體器件的QFN封裝結(jié)構(gòu)及方法。
背景技術(shù)
隨著電子電路設(shè)計(jì)趨于高度集成,對(duì)器件的封裝體積要求也隨之提高,傳統(tǒng)的紐扣式封裝、SMA/SMB/SMC等貼片式封裝雙面半導(dǎo)體器件逐漸無(wú)法滿足高端電路設(shè)計(jì)PCB版的布圖需要,更扁平、更小型的封裝形式需求急迫。
四周無(wú)引腳扁平式封裝(QFN)為目前最為合適的芯片級(jí)封裝形式,但該封裝技術(shù)目前主要應(yīng)用于集成電路封裝,對(duì)于固體放電管這樣的功率器件并不適用。其主要原因參照?qǐng)D1,雙面半導(dǎo)體器件在導(dǎo)電膠溢料時(shí)會(huì)與芯片接觸短路,從而導(dǎo)致器件失效;此外,若該器件為功率器件,需要承受瞬時(shí)大電流的工作狀態(tài),QFN只能使用導(dǎo)電膠進(jìn)行粘片,而常規(guī)導(dǎo)電膠無(wú)法滿足這一性能需要。
發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)根據(jù)背景技術(shù)中的技術(shù)門(mén)檻,基于QFN現(xiàn)有的封裝技術(shù)與設(shè)備條件,自行設(shè)計(jì)了一種雙面半導(dǎo)體器件的QFN封裝結(jié)構(gòu)及方法。
技術(shù)方案是:
一種雙面半導(dǎo)體器件的QFN封裝結(jié)構(gòu),包括芯片及與其對(duì)接的框架,所述芯片在其與框架的接觸面的側(cè)邊緣設(shè)有寬槽,在寬槽表面覆蓋有玻璃鈍化層;所述框架在其與芯片寬槽的內(nèi)邊對(duì)應(yīng)的位置開(kāi)有一定寬度的溢流槽;芯片和框架通過(guò)導(dǎo)電膠粘合,過(guò)量的導(dǎo)電膠置于溢流槽中。
作為優(yōu)選的實(shí)施方式,所述寬槽的剖面為弧形,其寬度為90~110μm,高度為30~50μm;所述溢流槽的寬度為150~200μm,槽深50~60μm,其內(nèi)圍邊長(zhǎng)小于芯片寬槽內(nèi)圍邊長(zhǎng)100μm。
優(yōu)選的,所述導(dǎo)電膠型號(hào)為京瓷2815A。
該封裝結(jié)構(gòu)還包括第一引腳和第二引腳,作為一種第一引腳和第二引腳的布置方式,第一引腳和第二引腳分別通過(guò)導(dǎo)線與芯片連接。
作為另一種第一引腳和第二引腳的布置方式,第一引腳通過(guò)導(dǎo)線與芯片連接,第二引腳設(shè)置在框架上,通過(guò)導(dǎo)電膠與芯片連接。
本申請(qǐng)還公開(kāi)了一種雙面半導(dǎo)體器件的QFN封裝方法,其具體步驟為:
a、芯片的制備:
1、按常規(guī)工藝流程至磷擴(kuò)散結(jié)束;
2、單面刻蝕寬槽版圖,另一面涂覆光刻膠曝光保護(hù),不作腐蝕;
3、濕法腐蝕寬槽,其寬度為90~110μm,高度為30~50μm;
4、在寬槽表面涂覆玻璃粉,進(jìn)行常規(guī)玻璃鈍化工序;
5、芯片金屬化,形成電極;
b、框架的制備:所制備的框架在其與芯片寬槽的內(nèi)邊對(duì)應(yīng)位置開(kāi)有一定寬度的溢流槽;溢流槽的寬度為150~200μm,槽深50~60μm,其內(nèi)圍邊長(zhǎng)小于芯片寬槽內(nèi)圍邊長(zhǎng)100μm;
c、選擇導(dǎo)電膠進(jìn)行粘片;
d、按常規(guī)工藝流程進(jìn)行鍵壓、塑封、切筋、測(cè)試、編帶及包裝。
更優(yōu)的,步驟c中的導(dǎo)電膠的型號(hào)選擇京瓷2815A。
本發(fā)明的有益效果:
本發(fā)明在芯片上設(shè)置寬槽結(jié)構(gòu),在框架上設(shè)置溢流槽結(jié)構(gòu),導(dǎo)電膠在溢料時(shí)會(huì)流入溢流槽,有效的防止了導(dǎo)電膠溢料時(shí)的短路問(wèn)題;
本發(fā)明的導(dǎo)電膠選擇型號(hào)為京瓷2815A,在雙面半導(dǎo)體器件為功率器件時(shí),也能滿足瞬時(shí)大電流的特殊工作狀態(tài)需要。
附圖說(shuō)明
圖1為常規(guī)雙面半導(dǎo)體器件的QFN封裝結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本發(fā)明芯片的寬槽結(jié)構(gòu)側(cè)視圖。
圖3為本發(fā)明芯片的寬槽結(jié)構(gòu)俯視圖。
圖4為本發(fā)明框架的溢流槽結(jié)構(gòu)側(cè)視圖。
圖5為本發(fā)明框架的溢流槽結(jié)構(gòu)俯視圖。
圖6為本發(fā)明的QFN封裝結(jié)構(gòu)示意圖(第一種引腳布置方式)。
圖7為本發(fā)明的QFN封裝結(jié)構(gòu)示意圖(第二種引腳布置方式)。
附圖標(biāo)記說(shuō)明:
1-芯片;2-寬槽;3-框架;4-溢流槽;5-基島;6-第一引腳;7-第二引腳。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明一種雙面半導(dǎo)體器件的QFN封裝結(jié)構(gòu)作進(jìn)一步說(shuō)明,但本發(fā)明的保護(hù)范圍不限于此:
結(jié)合圖2-圖5,一種雙面半導(dǎo)體器件的QFN封裝結(jié)構(gòu),包括芯片1及與其通過(guò)基島5對(duì)接的框架3,所述芯片1在其與框架3的接觸面的側(cè)邊緣設(shè)有寬槽2,在寬槽2表面覆蓋有玻璃鈍化層;所述框架3在其與芯片1的寬槽2的內(nèi)邊對(duì)應(yīng)的位置開(kāi)有一定寬度的溢流槽4;芯片1和框架3通過(guò)導(dǎo)電膠粘合,過(guò)量的導(dǎo)電膠置于溢流槽4中。
寬槽2的剖面為弧形,其寬度為90~110μm,高度為30~50μm;溢流槽4的寬度為150~200μm,槽深50~60μm,其內(nèi)圍邊長(zhǎng)小于芯片1的寬槽2內(nèi)圍邊長(zhǎng)100μm。
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