[發明專利]等離子體發射光譜二維空間分布的測量系統有效
| 申請號： | 201410315611.5 | 申請日： | 2014-07-03 |
| 公開（公告）號： | CN104121991A | 公開（公告）日： | 2014-10-29 |
| 發明（設計）人： | 陳文聰;蒲以康 | 申請（專利權）人： | 清華大學 |
| 主分類號： | G01J3/40 | 分類號： | G01J3/40 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 黃德海 |
| 地址： | 100084 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子體 發射光譜 二維 空間 分布 測量 系統 | ||
【權利要求書】：
1.一種等離子體發射光譜二維空間分布的測量系統，其特征在于，包括：
第一離軸拋物面鏡，所述第一離軸拋物面鏡用于將等離子體光源產生的光信號準直為平行光；
第二離軸拋物面鏡，所述第一離軸拋物面鏡和所述第二離軸拋物面鏡呈中心對稱設置，以將所述平行光進行匯聚并形成匯聚點；
窄帶干涉濾光片，所述窄帶干涉濾光片設置在所述匯聚點和所述第二離軸拋物面鏡之間，用于對由所述第二離軸拋物面鏡反射的光信號進行色散，以得到色散后的光信號；和
圖像采集器，所述圖像采集器設置在所述匯聚點以采集等離子體的發光圖像。
2.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述圖像采集器為CCD相機或ICCD相機。
3.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，還包括：光學平臺，其中，所述第一離軸拋物面鏡、所述第二離軸拋物面鏡和所述圖像采集器設置在所述光學平臺上。
4.根據權利要求3所述的系統，其特征在于，還包括：旋轉臺，所述旋轉臺設置于所述光學平臺上，所述旋轉臺用于驅動所述窄帶干涉濾光片進行旋轉以改變光信號在所述窄帶干涉濾光片上的入射角度。
5.根據權利要求3或4所述的系統，其特征在于，所述旋轉臺可手動進行旋轉。
6.根據權利要求3或4所述的系統，其特征在于，還包括：控制器，所述控制器與所述旋轉臺相連，所述控制器控制所述旋轉臺進行旋轉。
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