[發明專利]光掩模坯料的制造方法及光掩模坯料有效
| 申請號: | 201410314410.3 | 申請日: | 2014-07-03 |
| 公開(公告)號: | CN104280998B | 公開(公告)日: | 2019-10-08 |
| 發明(設計)人: | 深谷創一;稻月判臣 | 申請(專利權)人: | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號: | G03F1/32 | 分類號: | G03F1/32;G03F1/54;G03F1/68;G03F1/80 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 高培培;車文 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光掩模 坯料 制造 方法 | ||
1.一種光掩模坯料的制造方法,其特征在于,具備:
在相對于曝光光透明的石英基板上形成光學膜的第一步驟;及
向所述光學膜照射閃光燈光的第二步驟,
閃光燈光向所述光學膜的照射經由形成有相對于該閃光燈光的透射率不同的區域的石英板而進行。
2.根據權利要求1所述的光掩模坯料的制造方法,其中,
所述石英板在其表面具有遮光性膜,該遮光性膜的厚度對應于所述透射率不同的區域而不同。
3.根據權利要求2所述的光掩模坯料的制造方法,其中,
所述第二步驟具備如下輔助步驟:在第二石英板的整個面成膜有遮光性膜后,對該第二石英板照射具有平面內強度分布的閃光,通過與該閃光的照射強度對應的所述遮光性膜的升華而附著于透明的石英板上,由此在該透明的石英板上與所述透射率不同的區域相對應地,在所述石英板上形成厚度不同的所述遮光性膜。
4.根據權利要求2所述的光掩模坯料的制造方法,其特征在于,
所述石英板是對成膜有遮光性膜的基板照射閃光并通過所述遮光性膜的升華而使遮光性膜附著于透明的石英板上而形成的石英板。
5.根據權利要求1所述的光掩模坯料的制造方法,其中,
所述石英板中,與所述透射率不同的區域相對應而使所述石英板的表面的粗糙度不同。
6.根據權利要求1~5中任一項所述的光掩模坯料的制造方法,其中,
所述光掩模坯料的制造方法還具備在所述閃光燈光照射后的所述光學膜上層疊一層以上的膜的第三步驟。
7.根據權利要求6所述的光掩模坯料的制造方法,其中,
所述一層以上的膜選自與所述光學膜不同的其它的光學膜、功能性膜。
8.根據權利要求1~5中任一項所述的光掩模坯料的制造方法,其中,
所述光學膜是半色調相移膜。
9.一種光掩模坯料,其中,
所述光掩模坯料通過權利要求1~5中任一項所述的方法來制造。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





