[發明專利]臭椿育苗的方法

有效

• 申請號: 201410313215.9
• 申請日: 2014-07-03
• 公開（公告）號: CN104067919A
• 公開（公告）日: 2014-10-01
• 發明（設計）人: 李永青;郭海榮;郭沛榮;李香蓮;趙忠愛
• 申請（專利權）人: 李永青
• 主分類號: A01G31/00
• 分類號: A01G31/00
• 代理公司: 太原華弈知識產權代理事務所 14108
• 代理人: 李毅

技術領域

本發明涉及植物種子育苗技術領域，具體涉及臭椿種子的育苗方法。

背景技術

臭椿（Ailanthus?altissima）在我國南自廣東、廣西、云南，北到遼寧南部均有分布，以黃河流域為分布中心。垂直分布在海拔100～2000米范圍內。喜光，不耐嚴寒。在年平均氣溫7～19℃、年降雨量400～2000毫米范圍內生長正常；年平均氣溫12～15℃、?年降雨量550～1200毫米范圍內最適生長。產各地，為陽性樹種，喜生于向陽山坡或灌木叢中，村莊家前屋后的空閑地有栽培，經常種植為行道樹。除黏土外，各種土壤和中性、酸性及鈣質土都能生長，適生于深厚、肥沃、濕潤的砂質土壤。耐寒，耐旱，不耐水濕，長期積水會爛根死亡。深根性。對煙塵與二氧化硫的抗性較強，病蟲害較少。臭椿木材可供建筑、制人造板等，根皮、莖和種子供藥用，葉可飼養樗蠶。臭椿是荒山造林、庭園、工礦區、城市和農村綠化樹種。臭椿一般用播種繁殖。在生產實踐中，長期以來臭椿育苗是造林的一個瓶頸，存在的主要問題一是臭椿的出苗率低，二是在苗期極易得瘁倒病，因此，經常導致臭椿育苗的失敗。

發明內容

本發明的目的是針對現有技術存在的問題，提供一種臭椿育苗的方法，采用本發明方法進行臭椿育苗可顯著提高出苗率、極大地降低苗期瘁倒病的發生，明顯提高臭椿育苗的經濟效益。

為實現上述目的，本發明是通過以下技術方案實現的。

本發明的臭椿育苗的方法，包括如下步驟：

????(1)?精選成熟良好、無雜質的種子；

（2）將種子用等離子體處理機1.2-1.4A的劑量處理2次；

???（3）將(2)處理后的種子在陽光下晾曬4－5天；

（4）用草炭土：珍珠巖：粘土按8：2：1的體積比混合均勻后作為育苗基質，將（3）處理后的種子以行距140－180mm、株距1－3?mm的密度、深度15－16?mm進行播種，播種后的基質保持24-28℃、相對濕度75%－80%，播種后10－11天出苗；

(5)?將出苗后的小苗移至光照充足、基質保持20-30℃、相對濕度50%－60%的條件下培養，當臭椿苗高達到20－25cm時，按行距與距均為30cm移植至大棚土壤中培養，當苗高達到35cm以上時，完成育苗過程，逢初春或夏末秋初即可定植栽培。

本發明的關鍵步驟之一是用等離子體處理機對臭椿種子的處理。等離子體是物質存在的一種狀態，它是物質固體狀態、液體狀態、氣體狀態之后的第四種狀態－等離子體狀態。1929年科學家第一次引入“等離子體”這個名稱，等離子體學科成為一門年輕的學科。由于等離子體科學發展較晚，因此應用范圍不普遍。近年來，等離子體科學的研究得到了快速發展，目前主要用于航天實驗、軍事國防、金屬切割、材料表面鍍膜、電子工業、核聚變能源研究等領域。等離子體技術在植物上的應用屬于剛剛開始，它開辟了等離子體應用的一個新領域。等離子體處理技術的機理是通過等離子體發出的各種能量作用于種子，激發種子的潛能、提高種子的活力和發芽勢，增強種子的抗逆性和健壯度，使植物的生長能力得到提升。采用等離子體處理機對種子處理時，處理劑量和處理次數對種子作用的影響效果很大，不同的處理劑量和處理次數處理種子后對各種性狀的影響程度不同，效果差異較大。本發明針對臭椿出苗率低和苗期易得瘁倒病兩個臭椿育苗中存在的主要問題進行了等離子體處理劑量和處理次數的試驗，結果表明，用1.2A－1.4A的等離子體處理劑量處理2次后的效果最優（見圖1）。處理劑量偏小時，即使增加處理次數也一樣，表現在出苗時間縮短不明顯，出苗率提高不明顯和抗瘁倒病效果不明顯（見圖2）；處理劑量過大時，雖然在出苗時間明顯縮短、出苗率明顯提高和抗瘁倒病效果明顯，但臭椿苗的生長非常不整齊，苗的高度、莖粗和葉片大小差異過大（見圖3），不適宜于應用于育苗生產實踐。

本發明的另一關鍵步驟之一是將經等離子體處理后的臭椿種子在陽光下晾曬4－5天。試驗表明，經等離子體處理后的臭椿種子立即播種、陰涼處堆放、陽光下晾曬3天及以下、陽光下晾曬6天及以上等處理的效果均不及陽光下晾曬4－5天后播種效果好。