[發(fā)明專利]水質分析裝置和水質分析方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410310958.0 | 申請日： | 2014-07-01 |
| 公開（公告）號： | CN104345033A | 公開（公告）日： | 2015-02-11 |
| 發(fā)明（設計）人： | 俁野芳朗;河野忠司;石井章夫;田中弘子;北村巧 | 申請（專利權）人： | 株式會社堀場制作所;株式會社堀場先進技術 |
| 主分類號： | G01N21/17 | 分類號： | G01N21/17 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290 | 代理人： | 周善來;李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 水質 分析 裝置 方法 | ||
1.一種水質分析裝置，其特征在于，所述水質分析裝置執(zhí)行：試樣液注入步驟，向池注入試樣液；試劑注入步驟，向所述池注入試劑；反應步驟，在所述池內使所述試樣液和所述試劑反應；以及測量步驟，測量在所述池內經過了所述反應步驟的試樣液中含有的規(guī)定的測量對象成分，
所述水質分析裝置具有數據存儲部，在所述試樣液注入步驟、所述試劑注入步驟、所述反應步驟和所述測量步驟中，向所述池照射光并且通過光檢測部檢測從所述池射出的光，所述數據存儲部存儲通過所述光檢測部得到的光檢測數據或使用該光檢測數據計算出的計算數據。
2.根據權利要求1所述的水質分析裝置，其特征在于，
在所述測量步驟中，向試樣液照射光并測量試樣液中含有的規(guī)定的測量對象成分，
在所述試樣液注入步驟、所述試劑注入步驟和所述反應步驟中向所述池照射的光與在所述測量步驟中向試樣液照射的光是從同一個光源射出的光。
3.一種水質分析方法，其特征在于，所述水質分析方法包括：試樣液注入步驟，向池注入試樣液；試劑注入步驟，向所述池注入試劑；反應步驟，在所述池內使所述試樣液和所述試劑反應；以及測量步驟，測量在所述池內經過了所述反應步驟的所述試樣液中含有的規(guī)定的測量對象成分，
在所述試樣液注入步驟、所述試劑注入步驟、所述反應步驟和所述測量步驟中，向所述池照射光并且通過光檢測部檢測從所述池射出的光，并把光檢測數據或使用該光檢測數據計算出的計算數據存儲在數據存儲部中。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社堀場制作所;株式會社堀場先進技術，未經株式會社堀場制作所;株式會社堀場先進技術許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410310958.0/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
