[發(fā)明專利]一種利用低溫等離子體對(duì)膜式人工肺進(jìn)行表面刻蝕并鍵合β-環(huán)糊精的改性方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410309206.2 | 申請(qǐng)日： | 2014-06-27 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN104056556A | 公開（公告）日： | 2014-09-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 李磊;黃鑫;張志炳;王偉平;劉耀東 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 南京大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | B01D67/00 | 分類號(hào)： | B01D67/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 210093*** | 國(guó)省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 利用 低溫 等離子體 人工 進(jìn)行 表面 刻蝕 環(huán)糊精 改性 方法 | ||
1.一種利用低溫等離子體對(duì)膜式人工肺進(jìn)行表面刻蝕并鍵合β-環(huán)糊精的改性方法，其特征在于包括以下步驟：
①將膜式人工肺用聚4-甲基-1-戊烯(以下簡(jiǎn)稱TPX)膜表面覆蓋一層標(biāo)準(zhǔn)孔徑的陽(yáng)極氧化鋁模板，進(jìn)行低溫等離子體刻蝕得到均勻的粗糙膜表面；
②等離子活化TPX膜粗糙表面，使用β-環(huán)糊精堿性溶液浸泡的方法進(jìn)行表層化學(xué)鍵合；
③使用等離子體處理進(jìn)行表面鍵合狀態(tài)的穩(wěn)定化，在膜的活性位點(diǎn)固定β-環(huán)糊精基團(tuán)從而實(shí)現(xiàn)表面生物相容性改進(jìn)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種利用低溫等離子體對(duì)膜式人工肺進(jìn)行表面刻蝕并鍵合β-環(huán)糊精的改性方法，其特征在于：陽(yáng)極氧化鋁模板孔徑50-200nm，孔間距100-500nm，厚度為50-70μm，可以根據(jù)不同的刻蝕孔徑及密度要求進(jìn)行優(yōu)選。
3.如權(quán)利要求1所述的一種利用低溫等離子體對(duì)膜式人工肺進(jìn)行表面刻蝕并鍵合β-環(huán)糊精的改性方法，其特征在于：刻蝕采用的氣源可以是N2或者Ar中的任意一種，等離子體放電壓力為10-20Pa(絕壓)，照射時(shí)間(刻蝕時(shí)間)為200-600s，照射功率為150-300W。
4.如權(quán)利要求1所述的一種利用低溫等離子體對(duì)膜式人工肺進(jìn)行表面刻蝕并鍵合β-環(huán)糊精的改性方法，其特征在于：化學(xué)鍵合之前采用等離子體進(jìn)行膜基材的活化，采用的氣源是O2或者NH3中的任意一種，等離子體放電壓力為20-50Pa(絕壓)，照射時(shí)間為20-120s，照射功率為150-200W，得到不同基點(diǎn)活化率的TPX膜。
5.如權(quán)利要求1所述的一種利用低溫等離子體對(duì)膜式人工肺進(jìn)行表面刻蝕并鍵合β-環(huán)糊精的改性方法，其特征在于：采用β-環(huán)糊精堿性水溶液浸泡時(shí)使用的β-環(huán)糊精堿性水溶液濃度在5-10％(質(zhì)量分?jǐn)?shù))，浸泡時(shí)間為6-20小時(shí)，溶液溫度為15-30℃。
6.如權(quán)利要求1所述的一種利用低溫等離子體對(duì)膜式人工肺進(jìn)行表面刻蝕并鍵合β-環(huán)糊精的改性方法，其特征在于：等離子體處理進(jìn)行鍵合狀態(tài)的穩(wěn)定化所采用的氣源是He或者Ar中的任意一種，等離子體放電壓力為20-50Pa(絕壓)，照射時(shí)間為60-100s，照射功率為50-80W。
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