[發明專利]有機電致發光器件、陣列基板及其制備方法、顯示裝置

在審

• 申請號: 201410302840.3
• 申請日: 2014-06-27
• 公開（公告）號: CN104103766A
• 公開（公告）日: 2014-10-15
• 發明（設計）人: 代青;侯文軍;劉則
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L51/50
• 分類號: H01L51/50;H01L51/52;H01L51/54;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;陳源

1.一種有機電致發光器件，包括陽極、陰極、設置在所述陽極和所述陰極之間的發光層、以及設置在所述陽極與所述發光層之間的空穴注入層，其特征在于，所述空穴注入層內設置有金屬納米顆粒，所述金屬納米顆粒的局域表面等離子體共振頻率與所述發光層的發光波長相匹配。

2.根據權利要求1所述的有機電致發光器件，其特征在于，所述金屬納米顆粒的粒徑范圍為1nm-100nm。

3.根據權利要求1所述的有機電致發光器件，其特征在于，所述金屬納米顆粒在所述空穴注入層中的摻雜濃度范圍為1％-20％。

4.根據權利要求1所述的有機電致發光器件，其特征在于，所述金屬納米顆粒的形成材料為金、銀、鋁中的任意一種，或金、銀、鋁中任意一種的合金，或金、銀、鋁中的任意組合。

5.根據權利要求1所述的有機電致發光器件，其特征在于，所述金屬納米顆粒的形態為球狀、棱柱狀、立方體狀、籠狀、核-殼結構中任意一種或組合。

6.根據權利要求1所述的有機電致發光器件，其特征在于，所述金屬納米顆粒的制備方法包括：濺射法、蒸鍍法、光刻法、水熱法、化學合成法或電化學法。

7.根據權利要求1所述的有機電致發光器件，其特征在于，用于形成所述空穴注入層的墨水與所述金屬納米顆粒的混合體系，采用噴墨打印的方式形成所述空穴注入層。

8.根據權利要求1-7任一項所述的有機電致發光器件，其特征在于，所述空穴注入層包括第一子空穴注入層和第二子空穴注入層，所述金屬納米顆粒設置于所述第一子空穴注入層內，所述第二子空穴注入層相對所述第一空穴注入層更靠近所述發光層。

9.一種陣列基板，劃分為多個子像素區，所述子像素區內設置有機電致發光器件，其特征在于，所述有機電致發光器件采用權利要求1-8任一項所述的有機電致發光器件。

10.根據權利要求9所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括紅色有機電致發光器件、綠色有機電致發光器件和藍色有機電致發光器件，紅色有機電致發光器件、綠色有機電致發光器件和藍色有機電致發光器件分別依次設置于相鄰的三個所述子像素區內，紅色有機電致發光器件的所述空穴注入層內的所述金屬納米顆粒為長短軸比為9.5-10.5的銀橢球體，綠色有機電致發光器件的所述空穴注入層內的所述金屬納米顆粒為長短軸比為1.5-2.5的銀橢球體，藍色有機電致發光器件的所述空穴注入層內的所述金屬納米顆粒為長短軸比為2.8-3.8的銀橢球體。

11.根據權利要求9所述的陣列基板，其特征在于，所述子像素區內還設置有薄膜晶體管，所述薄膜晶體管的漏極與有機電致發光器件的陽極相連接。

12.一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求9-11中任意一項所述的陣列基板。

13.一種陣列基板的制備方法，所述陣列基板劃分為多個子像素區，所述子像素區內設置有機電致發光器件，所述制備方法包括形成所述有機電致發光器件的陽極、陰極、形成在所述陽極和所述陰極之間的發光層、以及形成在所述陽極與所述發光層之間的空穴注入層的步驟，其特征在于，所述空穴注入層內形成有金屬納米顆粒，所述金屬納米顆粒的局域表面等離子體共振頻率與所述發光層的發光波長相匹配。

14.根據權利要求13所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，形成所述空穴注入層的步驟包括：

制備不同粒徑或形貌或組成的金屬納米顆粒；

將所述金屬納米顆粒與用于形成空穴注入層的墨水混合均勻形成混合體系；

將所述混合體系采用噴墨打印的方式，噴涂形成在所述子像素區，干燥后形成包含有金屬納米顆粒的所述空穴注入層。

15.根據權利要求13所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，所述子像素區包括紅色子像素區、綠色子像素區和藍色子像素區，包含局域表面等離子共振峰在紅色波長處的所述金屬納米顆粒的所述混合體系噴涂至所述紅色子像素區內形成紅色有機電致發光器件，包含局域表面等離子共振峰在綠色波長處的所述金屬納米顆粒的所述混合體系噴涂到所述綠色子像素區內形成綠色有機電致發光器件，包含局域表面等離子共振峰在藍色波長處的所述金屬納米顆粒的所述混合體系噴涂到所述藍色子像素區內形成藍色有機電致發光器件。