[發明專利]基于分布式控制的束流自動校正系統

在審

• 申請號: 201410302570.6
• 申請日: 2014-06-30
• 公開（公告）號: CN104133434A
• 公開（公告）日: 2014-11-05
• 發明（設計）人: 劉奇
• 申請（專利權）人: 中廣核中科海維科技發展有限公司
• 主分類號: G05B19/418
• 分類號: G05B19/418
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 張惠忠

1.一種基于分布式控制的束流自動校正系統，包括一個1#主站以及三個子站，所述的三個子站分別為：2#子站、3#子站、4#子站；所述的1#主站通過總線網絡分別與2#子站、3#子站、4#子站進行數據交互；同時1#主站通過以太網與PC機數據交互；所述1#主站根據所接收到的輻照廳的安全聯鎖信號、所有電源的聯鎖信號和控制信號，執行束流校正控制；2#子站用于對高頻機的相關信號做出邏輯判斷，完成高頻機的能量控制；3#子站用于傳送加速器廳的安全聯鎖信號、步進電機控制信號、能量信號、束流信號、管流信號到1#主站；4#子站用于傳送真空計發送的真空度信號到1#主站。

2.根據權利要求1所述基于分布式控制的束流自動校正系統，其特征在于，所述的1#主站安裝在控制室內，2#子站安裝在高頻機附近，3#子站位于加速器廳外墻附近，4#子站與3#子站同在一個箱體內。

3.?根據權利要求1所述基于分布式控制的束流自動校正系統，其特征在于，所述高頻機的相關信號包括高頻機開關量信號、高頻機陽壓陽流信號、高頻機能量設定信號以及高頻機緊急關斷信號。

4.根據權利要求1所述基于分布式控制的束流自動校正系統，其特征在于，所述的1#主站采用芯片PLC?S7-300。

5.根據權利要求1所述基于分布式控制的束流自動校正系統，其特征在于，所述的2#子站采用芯片PLC?S7-200。

6.根據權利要求1所述基于分布式控制的束流自動校正系統，其特征在于，所述的3#子站采用芯片ET200M。

7.根據權利要求1所述基于分布式控制的束流自動校正系統，其特征在于，所述的4#子站采用芯片Profibus-dp轉RS485模塊。