[發明專利]一種制備大規格ITO靶材的方法無效
| 申請號: | 201410302160.1 | 申請日: | 2014-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN104058729A | 公開(公告)日: | 2014-09-24 |
| 發明(設計)人: | 楊碩;王政紅;師琳璞 | 申請(專利權)人: | 中國船舶重工集團公司第七二五研究所 |
| 主分類號: | C04B35/01 | 分類號: | C04B35/01;C04B35/622 |
| 代理公司: | 洛陽市凱旋專利事務所 41112 | 代理人: | 陸君 |
| 地址: | 471023 河南*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制備 規格 ito 方法 | ||
1.一種制備大規格ITO靶材的方法,其特征是:所述制備方法具體包括如下步驟:
第一步、制備ITO漿料:首先取ITO粉體或氧化銦和氧化錫的混合物,以去離子水為溶劑,在溶劑中加入有機分散劑,然后將ITO粉體或氧化銦和氧化錫的混合物與配置的含有機分散劑的溶劑一同進行球磨,制備出高固含量、較低粘度和懸浮性能好的ITO漿料(4);
第二步、接上步,制備大規格ITO靶材坯體:首先利用機械加壓方式將第一步獲得的高固含量、較低粘度、懸浮性能好的ITO漿料(4)通過微孔模具(5)壓濾,然后壓濾設備逐步對ITO漿料(4)加壓和保壓,排除ITO漿料(4)中的水分進而獲得大規格的ITO靶材坯體;
第三步、接上步,對上步獲得的ITO靶材坯體進行干燥、脫脂及燒結,首先將ITO靶材坯體經20~30℃干燥2~4天,80~150℃進一步干燥2~3天,600~900℃脫脂10~30h,1520~1650℃氧氣氛燒結后,得到大規格、高密度的大規格ITO靶材。
2.根據權利要求1所述的制備大規格ITO靶材的方法,其特征是:所述第一步中ITO粉體的純度大于99.99%、平均粒徑范圍為0.03~1.5μm。
3.根據權利要求1所述的制備大規格ITO靶材的方法,其特征是:所述第一步中氧化銦和氧化錫按重量比為90:10。
4.根據權利要求1所述的制備大規格ITO靶材的方法,其特征是:所述第一步中球磨的球磨罐材質為氧化鋯或尼龍或聚氨酯,球磨介質為氧化鋯球或聚氨酯球,球磨轉速為70~150r/min,球磨時間為10~30h,球磨后的ITO漿料(4)固含量為85~92%,粘度值為330~1350m Pa·s,球磨后的ITO漿料(4)經過抽真空脫氣后,得到滿足壓力注漿成型要求的高濃度、流動性較好的ITO漿料(4)。
5.根據權利要求1所述的制備大規格ITO靶材的方法,其特征是:所述第二步中的機械加壓,最高壓力為6~10MPa,保壓時間30~90min,當ITO靶材坯體固化成型后可立即脫模,得到大規格、高密度、結構均勻的ITO靶材坯體。
6.根據權利要求1所述的制備大規格ITO靶材的方法,其特征是:所述第二步中的壓濾設備包括上模框(2)、壓頭(3)、微孔模具(5)和下模框(7),在下模框(7)的上端設有上模框(2),在所述上模框(2)與下模框(7)之間設有微孔模具(5),在上模框(2)內設有壓頭(3),所述壓頭(3)的外緣面與上模框(2)的內緣面之間設有密封體形成所述的壓濾成型機。
7.根據權利要求6所述的制備大規格ITO靶材的方法,其特征是:所述微孔模具(5)通過支架(6)固定在下模框(7)的上端,在微孔模具(5)中部的下面設有支柱(9),所述支柱(9)的下端設置在下模框(7)的底部。
8.根據權利要求6所述的制備大規格ITO靶材的方法,其特征是:所述下模框(7)與上模框(2)之間通過螺栓(8)固定。
9.根據權利要求6所述的制備大規格ITO靶材的方法,其特征是:所述下模框(7)的底部設有排水閥(10)。
10.根據權利要求6所述的制備大規格ITO靶材的方法,其特征是:所述壓頭(3)上面的中部設有壓桿(1)。
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