[發明專利]基板處理裝置

有效

• 申請號: 201410301842.0
• 申請日: 2014-06-27
• 公開（公告）號: CN104253072B
• 公開（公告）日: 2019-06-18
• 發明（設計）人: 戶川哲二;伊藤賢也;石井游;內山圭介
• 申請（專利權）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;B08B1/00;B24B53/017
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所 31210
• 代理人: 梅高強;劉煜

1.一種基板處理裝置，其特征在于，具有：

擦洗器，該擦洗器使擦洗部件與基板的第1面滑動接觸而對該基板進行表面處理；

以及靜壓支承機構，該靜壓支承機構通過流體而非接觸地支承所述基板的第2面，所述第2面是所述第1面相反側的面，

所述擦洗器具有按壓板，該按壓板具有基板接觸面，該基板接觸面與由所述靜壓支承機構支承的所述基板的第1面平行，

所述按壓板的基板接觸面具有將所述擦洗部件的基板接觸面圍住的形狀，

在以所述擦洗器進行所述基板的表面處理期間，所述按壓板的基板接觸面與所述基板的第1面接觸。

2.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述按壓板的基板接觸面由軟質襯墊構成。

3.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述擦洗器還具有使所述按壓板相對于所述擦洗部件移動的相對移動機構，該相對移動機構使所述按壓板向接近及離開所述基板的第1面的方向移動。