[發明專利]一種曲面模型創建方法及裝置

在審

• 申請號: 201410301820.4
• 申請日: 2014-06-27
• 公開（公告）號: CN105336004A
• 公開（公告）日: 2016-02-17
• 發明（設計）人: 王愷
• 申請（專利權）人: 華為技術有限公司
• 主分類號: G06T17/10
• 分類號: G06T17/10
• 代理公司: 深圳市深佳知識產權代理事務所(普通合伙) 44285
• 代理人: 王仲凱

1.一種曲面模型創建方法，其特征在于，包括：

獲取已輸入的目標物件的截面線；

利用所述已輸入的目標物件的截面線所在的平面對三維空間進行區域劃分；

根據每個區域的形狀及每個區域包含的截面線生成位于每個區域內的幾何體，所述幾何體的表面插值有每個區域包含的截面線，提取位于每個區域內的幾何體的表面以生成位于每個區域內的子曲面，所述子曲面插值有該區域包含的截面線；

拼接所述子曲面得到所述目標物件的曲面模型。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述利用所述已輸入的目標物件的截面線所在的平面對三維空間進行區域劃分之后，所述方法還包括確定每個區域的類型，以對同一類型的區域采用同一處理方法進行處理，所述確定每個區域的類型具體為：

若構成某一個區域的所有面中，有兩個或兩個以上的面包含所述截面線，則確定所述區域為主體區域；

若構成某一個區域的所有面中，只有一個面包含所述截面線，則確定所述區域為邊緣區域；

若構成某一個區域的所有面中，沒有任何面包含所述截面線，則確定所述區域為空置區域。

3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，所述對同一類型的區域采用同一處理方法進行處理包括：

對于所述主體區域，選取所述主體區域中任意一個包含截面線的平面，以所述平面內的截面線圍成的區域為底面，沿與所述底面垂直的方向平移所述底面生成頂面與所述底面形狀相同的幾何體，所述幾何體的表面插值有所述截面線，所述幾何體的高度h_p＝δ*h_ij，其中δ∈(0,1)，h_ij為所述截面線的中心與以所述截面線的中心為起點，以垂直于所述底面的方向發出的射線與構成所述主體區域的其他平面相交的點之間的最短距離；

針對所述主體區域包含的其他截面線，按照上述方法生成插值所述其他截面線的幾何體；

對超出所述主體區域內的幾何體進行處理，以使所有幾何體位于所述主體區域內；

求解位于所述主體區域內的所有幾何體的并集，提取所述并集的表面作為位于所述主體區域內的子曲面，所述子曲面插值有所述主體區域包含的截面線。

4.如權利要求3所述的方法，其特征在于，所述主體區域至少包括第一截面線與第二截面線，所述生成的位于所述主體區域內的幾何體至少包括第一幾何體與第二幾何體，所述第一幾何體的表面插值所述第一截面線，所述第二幾何體的表面插值所述第二截面線，所述對超出所述主體區域內的幾何體進行處理，以使所有幾何體位于所述主體區域內包括：

當所述第一截面線與所述第二截面線不相交，所述第一幾何體和/或所述第二幾何體超出所述主體區域時，減小所述第一幾何體和/或所述第二幾何體的δ的取值，以調整所述第一幾何體和/或所述第二幾何體的高度h_p，從而使得所述第一幾何體和/或所述第二幾何體位于所述主體區域內；和/或

將所述第一幾何體和/或所述第二幾何體的頂面的輪廓線上的所有點向所述頂面的中心移動，直至所述頂面的輪廓線上的所有點位于所述主體區域內。

5.如權利要求3所述的方法，其特征在于，所述主體區域至少包括第一截面線與第二截面線，所述生成的位于所述主體區域內的幾何體至少包括第一幾何體與第二幾何體，所述第一幾何體的表面插值所述第一截面線，第二幾何體的表面插值所述第二截面線，當所述第一截面線與所述第二截面線相交時，所生成的所述第一幾何體的頂面的輪廓線上與所述第一截面線上預設的點對應的點位于所述主體區域內，所述第一截面線上預設的點為與所述第二截面線所在的平面之間的距離小于第一距離閾值的點。