[發(fā)明專利]并聯(lián)式PIN型α輻照電池及其制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410301092.7 | 申請日: | 2014-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN104051050A | 公開(公告)日: | 2014-09-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郭輝;趙亞秋;王悅湖;張藝蒙;張玉明 | 申請(專利權(quán))人: | 西安電子科技大學(xué) |
| 主分類號: | G21H1/06 | 分類號: | G21H1/06 |
| 代理公司: | 陜西電子工業(yè)專利中心 61205 | 代理人: | 王品華;朱紅星 |
| 地址: | 710071*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 并聯(lián) pin 輻照 電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種并聯(lián)式PIN型α輻照電池,包括:PIN單元和α放射源,其特征在于:
所述PIN單元采用由上、下兩個PIN結(jié)并聯(lián)構(gòu)成;下PIN結(jié)自下而上依次為,N型歐姆接觸電極(5)、N型高摻雜4H-SiC襯底(1)、N型低摻雜外延層(2)、P型高摻雜外延層(3)和P型歐姆接觸電極(4),上PIN結(jié)自下而上依次為,P型歐姆接觸電極(4)、P型高摻雜外延層(3)、N型低摻雜外延層(2)、N型高摻雜4H-SiC襯底(1)和N型歐姆接觸電極(5);
所述兩個PIN結(jié)其P型歐姆接觸電極(4)的一面接觸在一起,上下PIN結(jié)中溝槽形成鏡面對稱,相互貫通的一體結(jié)構(gòu);
每個PIN結(jié)中都設(shè)有至少兩個溝槽(6),每個溝槽(6)內(nèi)均放置有α放射源(7),以實現(xiàn)對高能α粒子的充分利用。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電池,其特征在于α放射源(7)采用相對原子質(zhì)量為241的镅元素或相對原子質(zhì)量為238的钚元素,即Am241或Pu238。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電池,其特征在于溝槽(6)的深度h滿足m+q<h<m+n+q,其中m為P型高摻雜外延層(3)的厚度,n為N型低摻雜外延層(2)的厚度,q為P型歐姆接觸電極(4)的厚度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電池,其特征在于溝槽(6)的寬度L滿足L≦2g,其中,g為α放射源(7)釋放的高能α粒子在α放射源中的平均入射深度,對于α放射源為Am241的,其取值為:g=7.5μm,對于α放射源為Pu238的,其取值為:g=10μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電池,其特征在于相鄰兩個溝槽(6)的間距d滿足d≥i,其中,i為α放射源(7)釋放的高能α粒子在4H-SiC中的平均入射深度,對于α放射源為Am241的,其取值為:i=10μm,對于α放射源為Pu238的,其取值為:i=18.2μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電池,其特征在于襯底(1)采用摻雜濃度為lx1018cm-3的N型4H-SiC,P型高摻雜外延層(3)和N型低摻雜外延層(2)均為4H-SiC外延,其中P型高摻雜外延層(3)的摻雜濃度為1x1019~5x1019cm-3,N型低摻雜外延層(2)的摻雜濃度為1x1015~2x1015cm-3。
7.一種并聯(lián)式PIN型α輻照電池的制備方法,包括以下步驟:
(1)制作下PIN結(jié):
1.1)清洗:對SiC樣片進(jìn)行清洗,以去除表面污染物;
1.2)生長N型低摻雜外延層:利用化學(xué)氣相淀積CVD法在清洗后的SiC樣片表面外延生長一層摻雜濃度為1x1015~2x1015cm-3,厚度為5~10μm的N型低摻雜外延層;
1.3)生長P型高摻雜外延層:利用化學(xué)氣相淀積CVD法在N型低摻雜外延層表面外延生長一層摻雜濃度為1x1019~5x1019cm-3,厚度為1~2μm的P型高摻雜外延層;
1.4)淀積歐姆接觸電極:在P型高摻雜外延層表面利用電子束蒸發(fā)法淀積一層厚度為300nm的Ni金屬層,作為刻蝕溝槽的掩膜和P型歐姆接觸金屬;利用電子束蒸發(fā)法在SiC襯底未外延的背面淀積厚度為300nm的Ni金屬層,作為N型歐姆接觸電極;1100℃下氮氣氣氛中快速退火3分鐘;
1.5)光刻圖形:按照核電池溝槽的位置制作成光刻版;在淀積的Ni金屬層表面旋涂一層光刻膠,利用光刻版對光刻膠進(jìn)行電子束曝光,形成腐蝕窗口;對腐蝕窗口處的Ni金屬層進(jìn)行腐蝕,露出P型高摻雜外延層SiC,得到P型歐姆接觸電極和溝槽腐蝕窗口;
1.6)刻蝕溝槽:利用電感耦合等離子體ICP刻蝕技術(shù),在露出的P型高摻雜SiC外延層上刻出深度為6.5~12μm,寬度為5~14μm,間距為12~25μm的至少兩個溝槽;
1.7)放置α放射源:采用淀積或涂抹的方法,在溝槽中放置α放射源,得到帶有溝槽的下PIN結(jié)。
(2)重復(fù)步驟1.1)到步驟1.7)制作上PIN結(jié)。
(3)利用鍵合法將上PIN結(jié)的P型歐姆接觸電極與下PIN結(jié)的P型歐姆接觸電極壓合在一起,完成并聯(lián)式PIN型α輻照電池的制作。
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