[發明專利]用于電氣保護設備的滅弧室和包括該室的電氣保護設備

有效

• 申請號: 201410299092.8
• 申請日: 2014-06-26
• 公開（公告）號: CN104252982B
• 公開（公告）日: 2019-06-07
• 發明（設計）人: J-C.拉米雷茲;H.瓦利爾;B.黑格;L.榮多特
• 申請（專利權）人: 施耐德電器工業公司
• 主分類號: H01H9/30
• 分類號: H01H9/30
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 郝娟君

1.一種用于電氣保護設備的滅弧室，包括含有靜觸點和動觸點的電弧形成室，在它們分離的瞬間電弧形成于它們之間，所述電弧形成室與稱為滅弧室的第二室的入口連通；至少一個分離壁，其放置在位于所述滅弧室下游的體積中，所述壁在氣流的方向上延伸，以便執行上述體積在氣體的此流動的方向上的分隔；以及至少一個排放出口，其能夠使淬火氣體被移除至所述設備的外部，其特征在于，上述分離壁(19)延伸，以便形成在流向排放出口的方向上的大致完全的分隔且從而至少形成第一移除管道(22)和第二移除管道(23)，所述管道每個都與排放出口(25、26)相關聯，并且使得大致完全的分離能夠被實現在稱為主流的第一流和稱為二次流的第二流之間，所述流在滅弧室(9)的出口射出并分別流入第一移除管道(22)和第二移除管道(23)，所述排放出口(25、26)和滅弧室(9)相對彼此布置成使得氣流在與氣流經由排放出口(25、26)從設備退出的方向大致垂直的方向上從滅弧室(9)退出。

2.根據權利要求1所述的滅弧室，其特征在于，上述排放出口(25、26)位于設備的固定面板(21)上，其被設計用于將后者固定在固定支承R上。

3.根據權利要求1所述的滅弧室，其特征在于，電氣保護設備包括電磁保護裝置(6)，以及位于此電磁保護裝置(6)與在固定支承R上的設備的固定面板(21)之間的滅弧室(9)，稱為主流的第一流被射出在固定支承R所在的一側上，而稱為二次流的第二流被射出在電磁保護裝置(6)所在的一側上。

4.根據權利要求1所述的滅弧室，其特征在于，移除管道(22、23)的橫截面隨著排放出口(25、26)接近而逐步減小。

5.根據權利要求1所述的滅弧室，其特征在于，其包括絕緣底部格柵(13)，其置于滅弧室(9)下游并且包括設計成使得進行淬火時所產生的氣體能夠通過的開口。

6.根據權利要求1所述的滅弧室，其特征在于，其還包括用于平衡在兩個管道(22、23)中的氣體流的路徑的長度的器材。

7.根據權利要求6所述的滅弧室，其特征在于，這些器材包括用于在設備厚度的方向上分離氣體流的器材。

8.根據權利要求7所述的滅弧室，其特征在于，在設備厚度的方向上的上述分離裝置包括大致相互垂直并形成臺階(28)的兩個分隔件(28a、28b)，所述臺階布置在稱為第一移除管道(22)的管道中，以便形成在此管道中的凸出體積并同時增加在此管道中的氣體流的路徑的長度，且在另一方面形成在稱為第二移除管道(23)的管道中的凹陷體積，氣體流在此臺階(28)上方的第一移除管道(22)中流動，而氣體流在此臺階(28)下方的第二移除管道(23)中流動。

9.根據權利要求8所述的滅弧室，其特征在于，與第二移除管道(23)相關聯的排放出口(26)位于上述臺階(28)的下方，而與第一移除管道(22)相關聯的排放出口(25)位于臺階(28)的腳部。

10.根據權利要求3至9中任一項所述的滅弧室，其特征在于，上述排放出口(25、26)位于相同的高度，后者被限定在平行于設備的固定面板(21)的方向上并且垂直于固定支承R的縱向方向。

11.根據前述權利要求1至9中任一項所述的滅弧室，其特征在于，上述管道(22、23)與設備的外殼模制在一起。

12.根據權利要求1至9中任一項所述的滅弧室，其特征在于，上述管道(22、23)容納在模塊化盒中。

13.一種電氣保護設備，其包括根據前述權利要求中任一項所述的滅弧室。

14.根據權利要求13所述的電氣保護設備，其特征在于，其是低壓斷路器。