[發(fā)明專利]反射式速調(diào)管及電子發(fā)射裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410288346.6 | 申請(qǐng)日: | 2014-06-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105336560B | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-11-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 柳鵬;陳丕瑾;周段亮;張春海;范守善 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 清華大學(xué);鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01J37/317 | 分類號(hào): | H01J37/317 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 100084 北京市海淀區(qū)清*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 反射 速調(diào)管 電子 發(fā)射 裝置 | ||
1.一種反射式速調(diào)管,其包括:
一第一基板和一第二基板,該第一基板和第二基板配合設(shè)置形成一諧振腔體;
一透鏡,該透鏡設(shè)置于該諧振腔體的一端形成一輸出端;以及
一電子發(fā)射裝置,該電子發(fā)射裝置向所述諧振腔體內(nèi)部發(fā)射電子,該電子在諧振腔體內(nèi)振蕩,最終由輸出端輸出,所述電子發(fā)射裝置包括:
一電子發(fā)射結(jié)構(gòu)和一電子反射結(jié)構(gòu)分別設(shè)置在第一基板和第二基板,且相對(duì)設(shè)置,其中,
該電子反射結(jié)構(gòu)包括:反射極、第二柵網(wǎng);
該電子發(fā)射結(jié)構(gòu)包括:陰極、電子引出極、電子發(fā)射體和第一柵網(wǎng),
其中,該電子發(fā)射體與所述陰極電連接,該電子引出極具有一通孔對(duì)應(yīng)所述電子發(fā)射體,所述電子發(fā)射體包括多個(gè)子電子發(fā)射體,每個(gè)子電子發(fā)射體具有一電子發(fā)射端,每一電子發(fā)射端至電子引出極的所述通孔的側(cè)壁的最短距離基本一致,每一電子發(fā)射端與反射極之間的距離大于等于10微米小于等于200微米,所述反射式速調(diào)管內(nèi)的壓強(qiáng)小于等于100帕,所述反射極的電位負(fù)于所述陰極的電位。
2.如權(quán)利要求1所述的反射式速調(diào)管,其特征在于,所述每個(gè)子電子發(fā)射體遠(yuǎn)離陰極的一端至電子引出極的所述通孔的側(cè)壁的最短距離的差值大于1微米小于等于50微米。
3.如權(quán)利要求1所述的反射式速調(diào)管,其特征在于,所述電子引出極的通孔設(shè)置在電子發(fā)射體的正上方。
4.如權(quán)利要求1所述的反射式速調(diào)管,其特征在于,所述電子引出極的通孔呈現(xiàn)倒漏斗的形狀。
5.如權(quán)利要求1所述的反射式速調(diào)管,其特征在于,所述電子引出極的通孔具有一遠(yuǎn)離所述陰極的第二開(kāi)口及一靠近所述陰極的第四開(kāi)口,第二開(kāi)口的面積小于所述第四開(kāi)口的面積。
6.如權(quán)利要求1所述的反射式速調(diào)管,其特征在于,所述電子引出極的通孔的側(cè)壁的表面為平面、凹面或凸面。
7.如權(quán)利要求1所述的反射式速調(diào)管,其特征在于,所述電子發(fā)射體為一碳納米管陣列,包括多個(gè)碳納米管,該多個(gè)碳納米管的高度從對(duì)應(yīng)電子引出極通孔中心的位置向四周逐漸減小。
8.如權(quán)利要求1所述的反射式速調(diào)管,其特征在于,所述子電子發(fā)射體遠(yuǎn)離陰極的一端至電子引出極的所述通孔的側(cè)壁的最短距離為5微米至100微米。
9.如權(quán)利要求1所述的反射式速調(diào)管,其特征在于,所述子電子發(fā)射體的表面設(shè)置一層抗離子轟擊材料,所述抗離子轟擊材料包括碳化鋯、碳化鉿、以及六硼化鑭中的一種或多種。
10.如權(quán)利要求1所述的反射式速調(diào)管,其特征在于,所述電子發(fā)射體包括碳納米管、納米碳纖維、硅納米線或硅尖。
11.如權(quán)利要求1所述的反射式速調(diào)管,其特征在于,所述電子發(fā)射體為一碳納米管線狀結(jié)構(gòu),該碳納米管線狀結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離陰極的一端由多個(gè)呈類圓錐形尖端的碳納米管束狀結(jié)構(gòu)組成,每個(gè)碳納米管束狀結(jié)構(gòu)的尖端至電子引出極的通孔的側(cè)壁的最短距離基本一致。
12.如權(quán)利要求11所述的反射式速調(diào)管,其特征在于,所述碳納米管束狀結(jié)構(gòu)包括多個(gè)沿所述尖端軸向定向延伸的碳納米管,該多個(gè)碳納米管之間通過(guò)范德華力連接。
13.如權(quán)利要求11所述的反射式速調(diào)管,其特征在于,所述碳納米管束狀結(jié)構(gòu)的尖端包括一根突出的碳納米管,該碳納米管位于所述碳納米管束狀結(jié)構(gòu)的中心。
14.如權(quán)利要求1所述的反射式速調(diào)管,其特征在于,所述第二柵網(wǎng)設(shè)置在所述第一柵網(wǎng)與反射極之間,并與第一柵網(wǎng)以及反射極間隔設(shè)置,所述第一柵網(wǎng)與第二柵網(wǎng)為至少兩個(gè)交叉設(shè)置的碳納米管膜。
15.如權(quán)利要求14所述的反射式速調(diào)管,其特征在于,所述第一柵網(wǎng)與第二柵網(wǎng)之間的間距為3微米~25微米。
16.如權(quán)利要求14所述的反射式速調(diào)管,其特征在于,所述碳納米管膜包括多個(gè)通過(guò)范德華力首尾相連且沿同一方向延伸的碳納米管。
17.如權(quán)利要求1所述的反射式速調(diào)管,其特征在于,所述電子發(fā)射裝置進(jìn)一步包括一電阻層,所述電阻層設(shè)置于電子發(fā)射體與陰極之間,所述電阻層的電阻大于10GΩ。
18.一種電子發(fā)射裝置,包括:
一陽(yáng)極電極;
一陰極,所述陰極與陽(yáng)極電極相對(duì)且間隔設(shè)置;
一電子發(fā)射體,該電子發(fā)射體與所述陰極電連接;
一電阻層,設(shè)置于所述電子發(fā)射體與所述陰極之間,所述電阻層的電阻大于10GΩ;
一電子引出極,該電子引出極通過(guò)一絕緣層與所述陰極電絕緣且間隔設(shè)置,該電子引出極具有一通孔對(duì)應(yīng)所述電子發(fā)射體;
其特征在于,所述電子發(fā)射體包括多個(gè)子電子發(fā)射體,每個(gè)子電子發(fā)射體具有一電子發(fā)射端,每一電子發(fā)射端至電子引出極的所述通孔的側(cè)壁的最短距離基本一致,每一電子發(fā)射端與陽(yáng)極電極之間的距離大于等于10微米小于等于200微米,所述電子發(fā)射裝置內(nèi)的壓強(qiáng)小于等于100帕。
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