[發明專利]內六角模具

在審

• 申請號: 201410286556.1
• 申請日: 2014-06-24
• 公開（公告）號: CN104128494A
• 公開（公告）日: 2014-11-05
• 發明（設計）人: 陶清明;查尚強;陶善龍
• 申請（專利權）人: 蕪湖求精緊固件有限公司
• 主分類號: B21D37/10
• 分類號: B21D37/10;B21D53/24
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 孫向民;董彬

技術領域

本發明涉及模具，具體地，涉及一種內六角模具。

背景技術

在螺帽的生產領域，對內六角的質量要求是很高的，在內六角的生產過程中，由加工難度大，出來的產品的尺寸精度難以達到要求，而且耗費成本高、加工效率低，也增加了企業的生產成本，內六角的加工需要一種好的模具來實現。

發明內容

本發明的目的是提供一種內六角模具，該內六角模具加工出的六角螺帽質量更加可靠成本也相應的降低很多。

為了實現上述目的，本發明提供一種內六角模具，所述內六角模具包括：上模體和與所述上模體相配合的下模體，所述下模體上形成有六角型腔，在所述六角型腔中，以所述六角型腔中心位置為軸設置有圓柱形凸塊，所述圓柱形凸塊高度大于或等于所述六角型腔的深度；所述六角型腔的周邊形成有凹槽，所述凹槽為的深度小于所述六角型腔的深度；以及所述上模體上設置有壓塊，所述壓塊與所述凹槽相配合。

優選地，所述凹槽為圓形凹槽。

進一步優選地，所述凹槽的深度從所述的圓形邊緣向所述凹槽的中心逐漸變深。

優選地，所述凹槽的周邊還設置有防護網。

優選地，所述下模體上設置有支撐架。

進一步優選地，所述支撐架的數量為2個。

優選地，所述六角型腔的底部設置有滑動塊，所述滑動塊沿垂直方向自由滑動。

進一步優選地，所述滑動塊連接于氣閥。

通過上述實施方式，本發明的內六角模具通過凹槽實現在對六角形螺帽進行壓制的時候不會使得廢削飛濺，在壓制的過程中，可以減少余料的浪費，通過沖擊壓制形成的六角形螺帽質量更加可靠。

本發明的其他特征和優點將在隨后的具體實施方式部分予以詳細說明。

附圖說明

附圖是用來提供對本發明的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與下面的具體實施方式一起用于解釋本發明，但并不構成對本發明的限制。在附圖中：

圖1是本發明一種優選實施方式的內六角模具的結構示意圖。

附圖標記說明

1??六角型腔?????????????2???圓柱形凸塊

3??凹槽?????????????????4???支撐架

20?上模體???????????????21??壓塊。

具體實施方式

以下結合附圖對本發明的具體實施方式進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的具體實施方式僅用于說明和解釋本發明，并不用于限制本發明。

圖1是本發明一種優選實施方式的內六角模具的結構示意圖。如圖1所示，本發明提供一種內六角模具，內六角模具包括：上模體20和與上模體20相配合的下模體10，下模體10上形成有六角型腔1用于形成六角形螺帽，在六角型腔1中，以六角型腔1中心位置為軸設置有圓柱形凸塊2，用于在六角形螺帽上形成一個孔，圓柱形凸塊2高度大于或等于六角型腔1的深度，使得形成的孔為通孔；六角型腔1的周邊形成有凹槽3，凹槽3為的深度小于六角型腔1的深度，只有小于才能實現形成六角形螺帽；以及上模體20上設置有壓塊21，壓塊21與凹槽3相配合用于擠壓出六角形螺帽。

通過上述實施方式，本發明的內六角模具通過凹槽實現在對六角形螺帽進行壓制的時候不會使得廢削飛濺，在壓制的過程中，可以減少余料的浪費，通過沖擊壓制形成的六角形螺帽質量更加可靠。

在一種實施方式中，凹槽3為圓形凹槽3，這樣將方便凹槽的邊邊角角形成殘渣的積累。

在另一種實施方式中，凹槽3的深度從的圓形邊緣向凹槽3的中心逐漸變深，這樣將更有益于壓制且殘渣更不容易飛濺。

在一種實施方式中，凹槽3的周邊還設置有防護網，阻擋殘渣飛濺的效果更好。

在一種實施方式中，下模體10上設置有支撐架4，用于支撐下模體10不會輕易移動。優選地，支撐架4的數量為2個。

在一種實施方式中，六角型腔1的底部設置有滑動塊，滑動塊沿垂直方向自由滑動，用于將壓制好的六角形螺帽取出。

在另一種實施方式中，滑動塊連接于氣閥，通過氣閥控制壓制好的六角形螺帽的取出。

以上結合附圖詳細描述了本發明的優選實施方式，但是，本發明并不限于上述實施方式中的具體細節，在本發明的技術構思范圍內，可以對本發明的技術方案進行多種簡單變型，這些簡單變型均屬于本發明的保護范圍。

另外需要說明的是，在上述具體實施方式中所描述的各個具體技術特征，在不矛盾的情況下，可以通過任何合適的方式進行組合，為了避免不必要的重復，本發明對各種可能的組合方式不再另行說明。

此外，本發明的各種不同的實施方式之間也可以進行任意組合，只要其不違背本發明的思想，其同樣應當視為本發明所公開的內容。