[發(fā)明專利]紅外區(qū)域等溫曲線溫度趨勢測量方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410286303.4
• 申請日: 2014-06-24
• 公開（公告）號: CN105277282B
• 公開（公告）日: 2018-05-01
• 發(fā)明（設計）人: 顧國華;錢毅濤;顏奇歡;陳錢;隋修寶;錢惟賢;何偉基;于雪蓮
• 申請（專利權）人: 南京理工大學
• 主分類號: G01J5/00
• 分類號: G01J5/00
• 代理公司: 南京理工大學專利中心32203
• 代理人: 朱顯國

1.一種紅外區(qū)域等溫曲線溫度趨勢測量方法，其特征在于，方法步驟如下：

步驟1、通過紅外探測器獲得待測目標的紅外圖像，將其緩存在一個二維數(shù)組中，在待測目標的紅外圖像中選定待測區(qū)域；

步驟2、根據(jù)待測區(qū)域內各像素點的灰度值確定各像素點對應的溫度，并確定最高溫度值對應的像素點和最低溫度值對應的像素點；再將最高溫度值和最低溫度值之間的差值分為N等分，并確定各等分值對應的像素點，N=3,4,5,6，……；

步驟 3、根據(jù)上述最高溫度值、最低溫度值和N個等分值，獲得閉合的等溫曲線；

步驟4、取位于最內側的閉合等溫曲線的幾何中心作為起始點，找到與其相鄰的閉合等溫曲線上距離起始點最近的點A，再以點A為起始點，找到A點所在的閉合等溫曲線外側相鄰的閉合等溫曲線上與點A最近的點B，依次類推，找到所有的點；

步驟5、在上述點中，任取中間三個點的坐標，得到上述所求點的趨勢的二次函數(shù)曲線，并繪制二次函數(shù)曲線，即為紅外區(qū)域等溫曲線溫度變化最快的曲線；

上述的坐標為步驟1中的二維數(shù)組的下標值。

2.根據(jù)權利要求1所述的紅外區(qū)域等溫曲線溫度趨勢測量方法，其特征在于：上述步驟1中，選定待測區(qū)域的范圍為整幅紅外圖像中最亮或者最暗的區(qū)域。

3.根據(jù)權利要求1所述的紅外區(qū)域等溫曲線溫度趨勢測量方法，其特征在于，得到步驟3中獲得閉合的等溫曲線的方式為以下兩種：

第一種，由相同的溫度構成閉合的等溫曲線；

第二種，相同的溫度不能構成閉合的等溫曲線時，則吸納相近的溫度值作為同一溫度值，形成閉合的等溫曲線。