[發明專利]攝像裝置和電子設備

有效

• 申請號: 201410286186.1
• 申請日: 2014-06-24
• 公開（公告）號: CN104284107B
• 公開（公告）日: 2019-08-16
• 發明（設計）人: 廣瀬遙平
• 申請（專利權）人: 索尼半導體解決方案公司
• 主分類號: H04N5/369
• 分類號: H04N5/369;H01L27/146
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 焦玉恒

公開了一種攝像裝置和電子設備。該攝像裝置，包括：第一電極膜、有機光電轉換膜、第二電極膜、以及電連接于第二電極膜的金屬配線膜，第一電極膜、有機光電轉換膜以及第二電極膜按此順序全部設置在基板上，并且金屬配線膜覆蓋有機光電轉換膜的整個端部。

技術領域

本技術涉及攝像裝置，以及配備有該攝像裝置的電子設備。

背景技術

目前，攝像裝置，諸如互補金屬氧化物半導體(CMOS)圖像傳感器和電荷耦合裝置(CCDs)，被廣泛應用于數字照相機、數字攝像機、以及其他類似的設備。此類攝像裝置在每個像素中例如包括獲取光電轉換信號的光電轉換膜以及讀取光電轉換信號并將其輸出至外部的信號讀取電路。該光電轉換膜例如由有機材料構成(例如，參考日本未審查專利申請公開特開2013-55252號)。

發明內容

有機材料傾向于容易被水分或氣體惡化。因此，如果光電轉換膜由有機材料構成，抑制水分和氣體進入該光電轉換膜是必要的。在一些相關技術中，光電轉化膜被一層保護膜覆蓋，該保護膜包含的主要成分例如為氮化硅，從而抑制了水分和氣體進入光電轉換膜。然而，僅僅用保護膜覆蓋光電轉換膜仍然難于充分地抑制水分和氣體的進入。這是因為保護膜上可能產生針孔或其臺階可能會破裂，并且通過這些氣孔或裂縫的水分或氣體將導致光電轉換膜的惡化。此外，光電轉換膜在制造過程中遭受到蝕刻損壞，并因此可能惡化。簡而言之，光電轉換膜傾向于容易被各種事件惡化。因此，有必要抑制光電轉換膜的惡化。

所希望的是提供能夠抑制光電轉換膜惡化的攝像裝置，以及一種配備有該攝像裝置的電子設備。

根據本技術的實施例的攝像裝置包括：第一電極膜；有機光電轉換膜；第二電極膜；以及電連接到第二電極膜的金屬配線膜。第一電極膜、有機光電轉換膜以及第二電極膜按此順序全部設置在基板上。金屬配線膜覆蓋有機光電轉換膜的整個端部。

根據本技術的實施例的電子設備包括：攝像裝置；以及信號處理電路，該信號處理電路對從攝像裝置輸出的像素信號進行預定的處理，該攝像裝置包括第一電極膜、有機光電轉換膜以及第二電極膜，第一電極膜、有機光電轉換膜以及第二電極膜按此順序全部設置在基板上。該攝像裝置還包括電連接于第二電極膜的金屬配線膜，金屬配線膜覆蓋有機光電轉換膜的整個端部。

根據本技術的實施例中的攝像裝置和電子設備，電連接于第二電極膜的金屬配線膜覆蓋有機光電轉換膜的整個端部。由此，用于驅動攝像裝置的金屬配線膜抑制了水分和氣體通過有機光電轉換膜的端部進入有機光電轉換膜的內部。因此，根據本技術的實施例，金屬配線膜不僅用于第二電極膜施加電壓路徑，而且用于保護有機光電轉換膜。

根據本技術的實施例中的攝像裝置和電子設備，用于驅動攝像裝置的金屬配線膜抑制了水分和氣體通過有機光電轉換膜的端部進入有機光電轉換膜的內部。因此可以抑制光電轉換膜的惡化。

此外，根據本技術的實施例中的攝像裝置和電子設備，如果保護膜被設置在有機光電轉換膜和金屬配線膜之間使得其同時覆蓋于有機光電轉換膜和第二電極膜上，可以利用該保護膜減輕在攝像裝置的制造過程中對有機光電轉換膜的蝕刻損壞。因此可以抑制光電轉換膜的惡化。

應理解，前面的總體描述以及后面的詳細描述二者都是示范性的，并且旨在對所要求保護的技術提供進一步的說明。

附圖說明

附圖包括提供本公開的進一步理解，并且結合在該說明書中且構成其一部分。附圖示出了實施例，并且與說明書一起用于說明本技術的原理。

圖1是示出根據本技術的第一實施例的攝像裝置的上表面構造示例的示意圖。

圖2是示出從圖1中A-A箭頭方向看的截面構造示例的示意圖。

圖3是示出根據第一變型例的攝像裝置的上表面構造示例的示意圖

圖4是示出從圖3中A-A箭頭方向看的截面構造示例的示意圖。