[發明專利]納米自清潔和主動防霧功能的保護玻璃及其制備方法

有效

• 申請號: 201410281649.5
• 申請日: 2014-06-20
• 公開（公告）號: CN104015431A
• 公開（公告）日: 2014-09-03
• 發明（設計）人: 申溯;葉燕;陳林森;周小紅;方宗豹;樓益民;殷熙梅;趙云龍
• 申請（專利權）人: 蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司
• 主分類號: B32B17/06
• 分類號: B32B17/06;C03C17/34
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 常亮

技術領域

本發明涉及納米材料技術領域，特別是涉及一種納米自清潔和主動防霧功能的保護玻璃及其制備方法。

背景技術

CCD監控攝像鏡頭常年在戶外工作，溫度變化范圍達到-50℃～-40℃，相對濕度變化范圍達到20％～100％。由于濕度和氣溫的變化，鏡頭表面容易冷凝結霧，同時由于戶外空氣的不清潔，在鏡頭表面沉積灰塵顆粒，影響CCD鏡頭的成像清晰度。嚴重情況下，在氣溫變化的結霧情況，甚至完全不能監控。在戶外條件下，如此大量的CCD鏡頭，頻繁用人工來擦除鏡頭保護玻璃的塵埃和污物，顯然不現實，成本高、工作量大，還有一定的危險性。因此，為減少人工擦拭次數，消除結霧天氣CCD監控不佳的情況，有必要提出一種納米自清潔和防霧功能的CCD監控鏡頭保護玻璃。

現有技術中申請號為201210042082.7的專利申請揭示了一種超親水自清潔防霧的減反增透涂層及其制備方法，其表面具有與自然界中的荷葉表面相似的結構，并且由納米粒子組裝而成，或者在玻璃表面涂覆各種功能的涂層起到防霧功能。然而現有技術中的減反增透涂層雖然具有超親水防霧功能，但其性能穩定性不高，且工藝復雜，制作成本高。

因此，針對上述技術問題，有必要提供一種納米自清潔和主動防霧功能的保護玻璃及其制備方法。

發明內容

有鑒于此，為了解決所述現有技術中的問題，本發明提供了一種納米自清潔和主動防霧功能的保護玻璃及其制備方法。

為了實現上述目的，本發明實施例提供的技術方案如下：

一種納米自清潔和主動防霧功能的保護玻璃，所述保護玻璃從上向下依次包括第一納米結構層、透明光學玻璃層、樹脂層及第二納米結構層，所述第一納米結構層和第二納米結構層為陣列納米結構，材質為具有疏水特性的樹脂，所述樹脂層中形成有網格溝槽，溝槽中形成有金屬網格，樹脂層的邊緣周圍設有與金屬網格電性導通的金屬線，金屬網格通過金屬線與外電路電性連接。

作為本發明的進一步改進，所述第一納米結構層和第二納米結構層上的陣列納米結構為隨機分布的凸狀納米結構，納米結構尺度范圍為70nm～200nm，納米結構高度為100nm～500nm。

作為本發明的進一步改進，所述陣列納米結構為陣列蛾眼納米結構或陣列荷葉納米結構。

作為本發明的進一步改進，所述樹脂層的厚度為10um～100um。

作為本發明的進一步改進，所述溝槽的線寬為2um～50um，深度為2um～50um。

作為本發明的進一步改進，所述金屬網格的線寬為2um～50um，金屬網格的平均寬度為20um-500um。

作為本發明的進一步改進，所述金屬線的線寬為50um～2mm。

作為本發明的進一步改進，所述金屬線與外電路相連后金屬網格的溫度為20℃～60℃。

相應地，一種納米自清潔和主動防霧功能的保護玻璃的制備方法，所述方法包括：

S1、在透明光學玻璃層上下表面分別涂布偶聯劑；

S2、在透明光學玻璃層上表面用含有陣列納米結構的模具通過UV壓印固化的方式，將模具表面的陣列納米結構轉移復制到透明光學玻璃層上表面上，形成第一納米結構層；

S3、在透明光學玻璃層下表面用含有網格結構的凸型模具通過UV壓印固化的方式，將網格結構復制到透明光學玻璃層下表面上，形成具有網格溝槽的樹脂層，在網格溝槽填充金屬導電漿料，通過低溫燒結形成金屬網格，并在樹脂層邊緣周圍形成與金屬網格電性導通的金屬線；

S4、在樹脂層的表面上用含有陣列納米結構的模具通過UV壓印固化的方式，將模具表面的陣列納米結構轉移復制到透明光學玻璃層上表面上，形成第二納米結構層。

本發明采用納米壓印的方法，可以高效復制納米結構，性能穩定性高、成本低，突出地利用了金屬網格加熱實現防霧功能。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明中記載的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明中保護玻璃的側視結構示意圖；

圖2為本發明一具體實施例中金屬網格的結構示意圖。

具體實施方式

以下將結合附圖所示的具體實施方式對本發明進行詳細描述。但這些實施方式并不限制本發明，本領域的普通技術人員根據這些實施方式所做出的結構、方法、或功能上的變換均包含在本發明的保護范圍內。