[發(fā)明專利]一種保護膜材料、顯示基板及其制備方法、以及顯示面板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410280171.4 | 申請日: | 2014-06-20 |
| 公開(公告)號: | CN104087055A | 公開(公告)日: | 2014-10-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | 崔曉鵬 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | C09D7/12 | 分類號: | C09D7/12;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產(chǎn)權代理有限公司 11291 | 代理人: | 黃志華 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 保護膜 材料 顯示 及其 制備 方法 以及 面板 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及液晶顯示裝置制造技術領域,尤其涉及一種保護膜材料、顯示基板及其制備方法、以及顯示面板。?
背景技術
在顯示面板的制造過程中,常會出現(xiàn)顯示面板中的元件暴露于溶劑、酸溶液、堿溶液、高溫環(huán)境等惡劣環(huán)境中。為了防止元件在這些惡劣環(huán)境中發(fā)生劣化或損傷等情況,一般采取在元件的表面形成具有一定耐高溫、耐腐蝕等耐受性的保護膜來保護元件。而隨著高世代產(chǎn)線的投入和TFT-LCD平板顯示時代的到來,顯示面板的制造工藝不斷發(fā)展,顯示面板中元件的集成度越來越高,并且各元件的關鍵尺寸不斷縮小,這樣也使得保護膜在具有上述耐受性的同時,還需具有較好的平坦性。?
現(xiàn)有的保護膜材料一般為丙烯酸酯樹脂、環(huán)氧樹脂等,帶有丙烯酸酯交聯(lián)劑和環(huán)氧樹脂交聯(lián)劑等物質(zhì)?,F(xiàn)有技術制備保護膜時,通常采用將保護膜材料溶液涂布于襯底基板表面,并依次進行預固化和烘焙,以使得保護膜材料分子與交聯(lián)劑分子發(fā)生交聯(lián)聚合以形成保護膜。?
但是,現(xiàn)有的保護膜在制備的過程中,為了使保護膜獲得較好的耐受性,往往需要保護膜材料具有較高的聚合度和較大的分子量;但是隨著聚合度的提高和分子量的增加,又造成了保護膜材料溶液的流動性變差,使得所制備保護膜的表面平坦性相對較差。所以現(xiàn)有的保護膜較難兼顧耐受性和平坦性的雙重要求,從而也就無法滿足高品質(zhì)及精細化顯示面板對保護膜耐受性和平坦性的要求。?
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種保護膜材料、顯示基板及其制備方法、以及顯示面板,采用該保護膜材料制備而成的保護膜不僅具有較高的耐受性,而且具有良好的平坦性。?
為達到上述目的,本發(fā)明提供以下技術方案:?
一方面,本發(fā)明提供了一種保護膜材料,包括保護膜基材,還包括:?
質(zhì)量百分比為0.05~30%的紫外光吸收色素;?
質(zhì)量百分比為0.05~10%的紫外光引發(fā)劑。?
由于紫外光吸收色素和紫外光引發(fā)劑的分子較小,其添加于保護膜基材溶液中,對保護膜基材溶液流動性的影響較小,從而保證了將混合均勻后的保護膜材料溶液涂布于顯示基板表面后所形成保護膜層的表面平坦性。而且紫外光吸收色素的添加造成照射至保護膜層內(nèi)的紫外光照強度呈現(xiàn)出由強到弱的梯度變化,進而使得保護膜層內(nèi)紫外光照較強一側的保護膜基材分子在紫外光引發(fā)劑的引發(fā)作用下發(fā)生紫外聚合,從而使得保護膜層靠近紫外光照一側(即靠近保護膜層表面處)具有較高的聚合度和較大的分子量,進而使得最終形成的保護膜表面具有較高的耐受性。?
優(yōu)選地,所述紫外光吸收色素為:2-(2'-羥基-3'-叔丁基-5'-甲基苯基)-5-氯代苯并三唑;或者,?
所述紫外光吸收色素為:2-羥基-4-正辛氧基二苯甲酮;或者,?
所述紫外光吸收色素為:雙{3-[3-(2-H-苯并三唑-2-基)-4-羥基-5-叔丁基苯基]-丙酸}-聚乙二醇300酯。?
優(yōu)選地,所述紫外光引發(fā)劑為過氧化二苯甲酰、過氧化十二酰、偶氮二異丁腈、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二環(huán)己酯、苯甲酮或安息香雙甲醚。?
另一方面,本發(fā)明還提供了一種顯示基板,包括襯底基板和形成于所述襯底基板上的保護膜,所述保護膜采用上述技術方案所提供的保護膜材料制備而?成。?
由于采用上述保護膜材料制備而成的保護膜不僅具有良好的平坦性,而且具有較高的耐受性。所以,本發(fā)明提供的顯示基板中,顯示基板表面保護膜的耐受性和表面平坦性較好,從而有利提高顯示基板整體的耐受性和表面平坦性,進而提高了顯示基板的產(chǎn)品質(zhì)量。?
優(yōu)選地,所述保護膜的厚度為0.5~20微米。?
另外,本發(fā)明還提供了一種上述技術方案所述顯示基板的制備方法,包括:?
形成保護膜層,在襯底基板表面覆蓋一層所述保護膜材料溶液,通過預固化處理以形成保護膜層;?
紫外光輻照處理,對襯底基板表面所形成的保護膜層進行紫外光輻照處理以使所述保護膜層中的表層分子發(fā)生紫外聚合;?
加熱處理,對紫外光輻照處理后的襯底基板進行加熱處理以使所述保護膜層內(nèi)的保護膜基材分子發(fā)生熱聚合,從而形成表面具有保護膜的顯示基板。?
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