[發明專利]閾值矩陣及圖像數據生成方法及裝置、圖像記錄裝置及介質

有效

• 申請號: 201410280042.5
• 申請日: 2014-06-20
• 公開（公告）號: CN104253925B
• 公開（公告）日: 2017-08-11
• 發明（設計）人: 淺井浩;高濱郁彥
• 申請（專利權）人: 斯克林集團公司
• 主分類號: H04N1/405
• 分類號: H04N1/405;H04N1/52
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司72003
• 代理人: 金相允,向勇

1.一種閾值矩陣生成方法，用于生成N倍速用的閾值矩陣，該N倍速用的閾值矩陣，在能夠以1倍速及N倍速記錄圖像的圖像記錄裝置中，在對多灰度的原圖像進行用于N倍速描畫的點狀化時，用于與所述原圖像進行比較，所述N是2以上的整數，其特征在于，

包括以下工序：

a)工序，準備如下的矩陣空間，該矩陣空間是在與所述圖像記錄裝置的記錄方向相對應的列方向及與所述列方向垂直的行方向上排列的矩陣要素的集合；

b)工序，以如下的方式設定與進行N倍速描畫時的記錄對象上的描畫位置相對應的矩陣要素即描畫要素，并將其他的矩陣要素設定為非描畫要素，該方式是指，在所述列方向上每隔N-1個矩陣要素配置一個描畫要素，而且，在所述行方向上每隔N-1個矩陣要素配置一個描畫要素；

c)工序，設定第一區塊，并設定第二區塊，其中，所述第一區塊是多個第一部分區塊的集合，所述多個第一部分區塊在所述矩陣空間內大致均勻分布并且分別包含多個描畫要素，所述第二區塊是所述矩陣空間內的除了所述第一區塊之外的區域；

d)工序，向所述第一區塊內的一個描畫要素分配最初的出現編號來將該描畫要素變更為已決定要素，此后，為了對所述原圖像進行點狀化時的所述閾值矩陣的反復應用，通過反復進行如下的第一處理，來將各第一部分區塊的二個以上的描畫要素變更為已決定要素，在該第一處理中，基于與全部的已決定要素相距的距離，來在所述第一區塊內確定與所述全部的已決定要素相距最遠的描畫要素，向該描畫要素分配下一個出現編號，由此將該描畫要素變更為已決定要素；

e)工序，在所述d)工序之后，為了對所述原圖像進行點狀化時的所述閾值矩陣的反復應用，通過反復進行如下的第二處理，來在所述第二區塊內將一個以上的描畫要素變更為已決定要素之后，將其他描畫要素變更為已決定要素，在該第二處理中，基于與全部的已決定要素相距的距離，來確定與所述全部的已決定要素相距最遠的描畫要素，向該描畫要素分配出現編號；

f)工序，按照所述出現編號，決定各描畫要素的閾值，由此得出N倍速用的閾值矩陣。

2.如權利要求1所述的閾值矩陣生成方法，其特征在于，

所述N是2。

3.如權利要求2所述的閾值矩陣生成方法，其特征在于，

所述第二區塊是多個第二部分區塊的集合；

各第一部分區塊及各第二部分區塊相互大小相同并且形狀相同；

所述多個第一部分區塊和所述多個第二部分區塊，在所述行方向上平行地交替排列并且在所述列方向上平行地交替排列。

4.如權利要求3所述的閾值矩陣生成方法，其特征在于，

在所述d)工序中，在所述各第一部分區塊內變更為已決定要素的描畫要素的個數，少于包含在所述各第一部分區塊內的描畫要素的個數。

5.如權利要求1所述的閾值矩陣生成方法，其特征在于，

所述第二區塊是多個第二部分區塊的集合；

各第一部分區塊及各第二部分區塊相互大小相同并且形狀相同；

所述多個第一部分區塊和所述多個第二部分區塊，在所述行方向上平行地交替排列并且在所述列方向上平行地交替排列。

6.如權利要求5所述的閾值矩陣生成方法，其特征在于，

在所述d)工序中，在所述各第一部分區塊內變更為已決定要素的描畫要素的個數，少于包含在所述各第一部分區塊內的描畫要素的個數。

7.如權利要求1所述的閾值矩陣生成方法，其特征在于，

在所述d)工序中，在所述各第一部分區塊內變更為已決定要素的描畫要素的個數，少于包含在所述各第一部分區塊內的描畫要素的個數。

8.一種圖像數據生成方法，用于生成圖像數據，其特征在于，

包括以下工序：

準備通過如權利要求1至7中任一項所述的閾值矩陣生成方法來生成的閾值矩陣的工序；

通過對多灰度的原圖像和所述閾值矩陣進行比較來生成對所述原圖像進行了點狀化的網點圖像數據的工序。

9.一種圖像數據生成裝置，用于生成圖像數據，其特征在于，包括：

矩陣存儲部，其存儲通過如權利要求1至7中任一項所述的閾值矩陣生成方法來生成的閾值矩陣；

圖像數據生成部，其通過對多灰度的原圖像和所述閾值矩陣進行比較，來生成對所述原圖像進行了點狀化的網點圖像數據。