[發明專利]用于大角度入射高能激光的衰減取樣裝置

有效

• 申請號: 201410279528.7
• 申請日: 2014-06-20
• 公開（公告）號: CN104019891A
• 公開（公告）日: 2014-09-03
• 發明（設計）人: 趙海川;楊鵬翎;吳勇;陳紹武;王振寶;閆燕;張磊;陶蒙蒙;武俊杰;馮國斌
• 申請（專利權）人: 西北核技術研究所
• 主分類號: G01J1/04
• 分類號: G01J1/04
• 代理公司: 西安文盛專利代理有限公司 61100
• 代理人: 李中群

1.一種用于大角度入射高能激光的衰減取樣裝置，其特征在于：包括沿激光入射方向依次設置的前面板(1)、衰減單元和后面板(2)，所述的前面板(1)上設置有激光入射的取樣直孔(6)，后面板(2)上設置有激光出射孔(7)，所述的衰減單元包括前透射窗(3)、后透射窗(9)和與圓柱空腔(4)，所述的前透射窗(3)緊貼取樣直孔(6)設置，后透射窗(9)緊貼激光出射孔(7)設置，所述的圓柱空腔(4)與取樣直孔(6)、激光出射孔(7)同軸設置，所述的圓柱空腔(4)內填充有顆粒狀的光學體散射材料(5)。

2.根據權利要求1所述的用于大角度入射高能激光的衰減取樣裝置，其特征在于：所述前透射窗(3)和后透射窗(9)的材料均為石英、硅或碳化硅。

3.根據權利要求1所述的用于大角度入射高能激光的衰減取樣裝置，其特征在于：所述光學體散射材料(5)為石英砂或玻璃微珠。

4.根據權利要求1所述的用于大角度入射高能激光的衰減取樣裝置，其特征在于：所述前面板(1)和后面板(2)的材料為石墨、鋁或銅。

5.根據權利要求1所述的用于大角度入射高能激光的衰減取樣裝置，其特征在于：所述前面板(1)的迎光面為漫反射面。