[發(fā)明專利]一種陣列基板及其制作方法和顯示面板

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410276679.7
• 申請日: 2014-06-19
• 公開（公告）號: CN104091806B
• 公開（公告）日: 2017-06-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郤玉生;胡海琛;田明
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: G02F1/1368
• 分類號: G02F1/1368;H01L27/12;H01L21/77
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司11274
• 代理人: 申健

1.一種陣列基板，包括：基板、柵線、柵絕緣層和數(shù)據(jù)線，所述柵線、數(shù)據(jù)線通過濺射工藝形成，其特征在于，還包括：

所述陣列基板的所述柵線和所述數(shù)據(jù)線上與隔墊物對應(yīng)的位置處設(shè)置有過孔；所述柵線上對應(yīng)位置處的過孔是在所述柵線形成過程中通過構(gòu)圖工藝與所述柵線一起形成的；所述數(shù)據(jù)線上對應(yīng)位置處的過孔是在所述數(shù)據(jù)線形成過程中通過構(gòu)圖工藝與所述數(shù)據(jù)線一起形成的；通過在所述陣列基板上的所述柵線和所述數(shù)據(jù)線上與所述隔墊物對應(yīng)的位置處設(shè)置所述過孔，所述隔墊物位置對應(yīng)的陣列基板上的所述柵線和所述數(shù)據(jù)線被處理掉；

所述陣列基板還包括鈍化層，所述鈍化層通過濺射工藝形成，所述陣列基板的所述鈍化層上與所述隔墊物對應(yīng)位置處設(shè)置有過孔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，還包括：

所述陣列基板的所述柵線和所述柵絕緣層上與所述隔墊物對應(yīng)位置處均設(shè)置有過孔。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述隔墊物位置對應(yīng)的陣列基板上包含：有源層、鈍化層和ITO像素電極層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述隔墊物位置對應(yīng)的陣列基板上包含：第一層ITO像素電極層、有源層、鈍化層和第二層ITO像素電極層。

5.一種顯示面板，其特征在于，包括權(quán)利要求1～4任一項(xiàng)所述的陣列基板。

6.一種陣列基板的制作方法，其特征在于，包括：

在基板上形成一層?xùn)沤饘賹樱ǎ和ㄟ^構(gòu)圖工藝在所述基板上形成包括柵線和柵極的柵金屬層；

在所述柵金屬層上形成一層?xùn)沤^緣層；

在所述柵絕緣層上形成源極、漏極和數(shù)據(jù)線，所述數(shù)據(jù)線通過濺射工藝形成；

其中，所述柵金屬層上與隔墊物對應(yīng)的位置處形成有過孔和所述數(shù)據(jù)線上與所述隔墊物對應(yīng)的位置處形成有過孔；所述柵線上對應(yīng)位置處的過孔是在所述柵線形成過程中通過構(gòu)圖工藝與所述柵線一起形成的；所述數(shù)據(jù)線上對應(yīng)位置處的過孔是在所述數(shù)據(jù)線形成過程中通過構(gòu)圖工藝與所述數(shù)據(jù)線一起形成的；通過在所述陣列基板上的所述柵線和所述數(shù)據(jù)線上與所述隔墊物對應(yīng)的位置處設(shè)置所述過孔，所述隔墊物位置對應(yīng)的陣列基板上的所述柵線和所述數(shù)據(jù)線被處理掉；

所述方法還包括：在鈍化層上與所述隔墊物對應(yīng)的位置處形成過孔，所述鈍化層通過濺射工藝形成。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述在基板上形成一層?xùn)沤饘賹樱ǎ?/p>

通過構(gòu)圖工藝在所述基板上形成包括柵線和柵極的柵金屬層以及所述柵線上與所述隔墊物對應(yīng)位置處的過孔。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述在所述柵金屬層上形成一層?xùn)沤^緣層之后，還包括：

在與所述隔墊物對應(yīng)位置處形成貫穿所述柵線和柵絕緣層的過孔。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述在所述柵絕緣層上形成源極、漏極和數(shù)據(jù)線，包括：

通過構(gòu)圖工藝在所述柵絕緣層上形成源極、漏極、數(shù)據(jù)線和所述數(shù)據(jù)線上與所述隔墊物對應(yīng)的位置處的過孔。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

在所述柵絕緣層上與所述隔墊物對應(yīng)的位置處形成過孔。