[發明專利]半穿透半反射的調光薄膜及其制造方法有效
| 申請號： | 201410274508.0 | 申請日： | 2014-06-18 |
| 公開（公告）號： | CN104076419B | 公開（公告）日： | 2017-05-31 |
| 發明（設計）人： | 吳豐旭 | 申請（專利權）人： | 明基材料有限公司;明基材料股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/00 | 分類號： | G02B5/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215121 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 穿透 反射 調光 薄膜 及其 制造 方法 | ||
1.一種半穿透半反射的調光薄膜的制造方法，其特征在于其包含:
提供透明基材；
涂布可固化樹脂于該基材之上；
以預定圖案壓印該可固化樹脂以形成復數個相互平行的柵形條狀微結構，該復數個柵形條狀微結構包含復數個第一區域以及復數個第二區域，其中該復數個第一區域為該復數個柵形條狀微結構的頂表面，該復數個第二區域為該復數個柵形條狀微結構間的凹槽表面；
形成保護層于該復數個柵形條狀微結構的該復數個第一區域；
形成反射層于該保護層以及該復數個第二區域；以及
移除該復數個柵形條狀微結構的該復數個第一區域上的保護層及反射層。
2.如權利要求1所述的調光薄膜的制造方法，其特征在于形成該保護層的方法為利用滾輪涂布法將保護劑涂布于該復數個柵形條狀微結構的該復數個第一區域上以形成保護層。
3.如權利要求2所述的調光薄膜的制造方法，其特征在于該保護劑為油性涂料或光阻劑。
4.如權利要求1所述的調光薄膜的制造方法，其特征在于形成該反射層的方法為化學沉積法或物理沉積法。
5.如權利要求4所述的調光薄膜的制造方法，其特征在于該反射層為金屬涂層。
6.如權利要求1所述的調光薄膜的制造方法，其特征在于移除保護層及該反射層的方法為利用清洗劑將保護層去除。
7.如權利要求6所述的調光薄膜的制造方法，其特征在于該清洗劑為堿液或油性溶劑。
8.如權利要求1所述的調光薄膜的制造方法，其特征在于每個柵形條狀微結構的寬度范圍為100μm至1000μm，高度范圍為50μm至200μm，且相鄰柵形條狀微結構之間的間距范圍為50μm至1000μm。
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