[發明專利]一種折反式太赫茲波成像系統

無效

• 申請號: 201410272920.9
• 申請日: 2014-06-12
• 公開（公告）號: CN104035197A
• 公開（公告）日: 2014-09-10
• 發明（設計）人: 王軍;郭曉珮;丁杰;茍君;蔣亞東;吳志明
• 申請（專利權）人: 電子科技大學
• 主分類號: G02B27/00
• 分類號: G02B27/00;G02B17/08
• 代理公司: 成都華典專利事務所(普通合伙) 51223
• 代理人: 徐豐

1.一種折反式太赫茲波成像系統，其特征在于：該系統包括次級反射鏡(10)，環形初級反射鏡(20)，透鏡(30)，太赫茲探測窗口(40)和焦平面(50)，太赫茲探測窗口40和孔徑光闌重合。

2.如權利要求1所述的折反式太赫茲波成像系統，其特征在于：次級反射鏡(10)、環形初級反射鏡(20)、透鏡(30)、太赫茲探測窗口(40)和焦平面(50)從前到后依次分布；來自物方的光線依次經過環形初級反射鏡(20)、次級反射鏡(10)、透鏡(30)、孔徑光闌和太赫茲窗口(40)，成像在焦平面(50)上。

3.如權利要求1所述的折反式太赫茲波成像系統，其特征在于：環形初級反射鏡(20)在次級反射鏡(10)后方，二者中心線在同一直線上且二者保持適當距離，環形初級反射鏡(20)中心留有適當空隙，透鏡(30)和太赫茲探測窗口(40)緊密結合，位于環形初級反射鏡(20)中心的空隙后方且透鏡(30)前表面與次級反射鏡(10)保持適當距離，焦平面(50)位于最后方，且與太赫茲探測窗口(40)后表面保持適當距離。

4.如權利要求1所述的折反式太赫茲波成像系統，其特征在于：次級反射鏡(10)和環形初級反射鏡(20)表面采用反射率極高的金鏡面、銀鏡面或鋁鏡面。

5.如權利要求1所述的折反式太赫茲波成像系統，其特征在于：透鏡(30)和太赫茲探測窗口(40)采用折射率為2.6-3.9的高阻浮區硅制成。

6.如權利要求1所述的折反式太赫茲波成像系統，其特征在于：透鏡(30)前表面和太赫茲探測窗口(40)前表面覆蓋有80-130μm的聚對二甲苯抗反膜。

7.如權利要求1所述的折反式太赫茲波成像系統，其特征在于：次級反射鏡(10)、環形初級反射鏡(20)、透鏡(30)前表面和太赫茲探測窗口(40)前表面都被是非球面。

8.如權利要求1所述的折反式太赫茲波成像系統，其特征在于：該系統視角可達8°。