[發(fā)明專利]碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法及碳納米管結(jié)構(gòu)的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410272103.3 | 申請日: | 2014-06-18 |
| 公開(公告)號: | CN105329842B | 公開(公告)日: | 2017-06-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 魏洋;魏浩明;范守善 | 申請(專利權(quán))人: | 清華大學(xué);鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | B81C1/00 | 分類號: | B81C1/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100084 北京市海淀區(qū)清*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 納米 陣列 轉(zhuǎn)移 方法 結(jié)構(gòu) 制備 | ||
1.一種碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法,包括以下步驟:
提供一代替基底及一生長基底,該生長基底表面具有碳納米管陣列,該碳納米管陣列靠近該生長基底的表面為第一表面,遠(yuǎn)離該生長基底的表面為第二表面,該碳納米管陣列的形態(tài)能夠使得一碳納米管結(jié)構(gòu)從該碳納米管陣列中連續(xù)地拉出;
將該代替基底設(shè)置在該碳納米管陣列的第二表面,并使該代替基底與該碳納米管陣列的第二表面之間具有聚乙烯醇溶液,聚乙烯醇在該聚乙烯醇溶液中的質(zhì)量百分含量小于或等于2%;
使位于該代替基底與該碳納米管陣列的第二表面之間的該聚乙烯醇溶液中的溶劑固化變?yōu)楸?/p>
通過移動該代替基底與該生長基底中的至少一方,使該代替基底與該生長基底相遠(yuǎn)離,從而使該碳納米管陣列與該生長基底分離,并轉(zhuǎn)移至該代替基底;以及
通過升溫去除位于該代替基底與該碳納米管陣列之間的冰并使該聚乙烯醇留于該代替基底與該碳納米管陣列之間,去除冰后該碳納米管陣列維持該形態(tài)使該碳納米管結(jié)構(gòu)仍能夠從該碳納米管陣列中連續(xù)地拉出,該碳納米管結(jié)構(gòu)包括首尾相連的碳納米管。
2.如權(quán)利要求1所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,該碳納米管結(jié)構(gòu)為碳納米管膜或碳納米管線。
3.如權(quán)利要求1所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,該代替基底的表面與該碳納米管陣列的第二表面之間通過冰緊密結(jié)合,使該代替基底與該生長基底相遠(yuǎn)離時(shí)該碳納米管陣列與該生長基底分離。
4.如權(quán)利要求1所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,該使該代替基底與該碳納米管陣列的第二表面之間具有該聚乙烯醇溶液的步驟包括:
在該碳納米管陣列的第二表面形成一層聚乙烯醇溶液;以及
將該代替基底的表面接觸該具有聚乙烯醇溶液的第二表面。
5.如權(quán)利要求4所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,使位于該代替基底與該碳納米管陣列的第二表面之間的聚乙烯醇溶液中的溶劑變?yōu)楸牟襟E包括以具有0℃以下溫度的代替基底接觸該具有聚乙烯醇溶液的第二表面。
6.如權(quán)利要求1所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,該使該代替基底與該碳納米管陣列的第二表面之間具有該聚乙烯醇溶液的步驟包括:
在該代替基底的表面形成一層聚乙烯醇溶液;以及
將該代替基底具有聚乙烯醇溶液的表面接觸該碳納米管陣列的第二表面。
7.如權(quán)利要求1所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,使位于該代替基底與該碳納米管陣列的第二表面之間的聚乙烯醇溶液中的溶劑變?yōu)楸牟襟E包括將該代替基底、聚乙烯醇溶液、碳納米管陣列及生長基底的層疊結(jié)構(gòu)放入低溫箱中降溫至0℃以下。
8.如權(quán)利要求1所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,在該分離的過程中,該碳納米管陣列中的所有碳納米管為同時(shí)脫離該生長基底。
9.如權(quán)利要求1所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,該碳納米管陣列中的碳納米管沿該碳納米管的生長方向脫離該生長基底。
10.如權(quán)利要求1所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,該代替基底與該生長基底中的至少一方的移動方向?yàn)榇怪庇谠撋L基底的碳納米管生長表面。
11.如權(quán)利要求1所述的碳納米管陣列的轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,該聚乙烯醇在該聚乙烯醇溶液中的質(zhì)量百分含量為0.1%~2%。
12.一種碳納米管結(jié)構(gòu)的制備方法,包括以下步驟:
提供一代替基底及一生長基底,該生長基底表面具有碳納米管陣列,該碳納米管陣列靠近該生長基底的表面為第一表面,遠(yuǎn)離該生長基底的表面為第二表面,該碳納米管陣列的形態(tài)能夠使得一碳納米管結(jié)構(gòu)從該碳納米管陣列中連續(xù)地拉出;
將該代替基底設(shè)置在該碳納米管陣列的第二表面,并使該代替基底與該碳納米管陣列的第二表面之間具有聚乙烯醇溶液,聚乙烯醇在該聚乙烯醇溶液中的質(zhì)量百分含量小于或等于2%;
使位于該代替基底與該碳納米管陣列的第二表面之間的聚乙烯醇溶液中的溶劑固化變?yōu)楸?/p>
通過移動該代替基底與該生長基底中的至少一方,使該代替基底與該生長基底相遠(yuǎn)離,從而使該碳納米管陣列與該生長基底分離,并轉(zhuǎn)移至該代替基底;
通過升溫去除位于該代替基底與該碳納米管陣列之間的冰并使該聚乙烯醇留于該代替基底與該碳納米管陣列之間,去除冰后該碳納米管陣列維持該形態(tài)使該碳納米管結(jié)構(gòu)仍能夠從該碳納米管陣列中連續(xù)地拉出;以及從該代替基底上的碳納米管陣列拉取該碳納米管結(jié)構(gòu),該碳納米管結(jié)構(gòu)包括首尾相連的碳納米管。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于清華大學(xué);鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司,未經(jīng)清華大學(xué);鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410272103.3/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:半導(dǎo)體器件的形成方法
- 下一篇:一種叉車用單泵液壓系統(tǒng)
- 轉(zhuǎn)移支撐件及轉(zhuǎn)移模塊
- 轉(zhuǎn)移頭及其制備方法、轉(zhuǎn)移方法、轉(zhuǎn)移裝置
- 器件轉(zhuǎn)移裝置、轉(zhuǎn)移系統(tǒng)及轉(zhuǎn)移方法
- 轉(zhuǎn)移設(shè)備和轉(zhuǎn)移系統(tǒng)
- 轉(zhuǎn)移基板及制備方法、轉(zhuǎn)移裝置、轉(zhuǎn)移方法
- 轉(zhuǎn)移裝置與轉(zhuǎn)移方法
- 轉(zhuǎn)移系統(tǒng)和轉(zhuǎn)移方法
- 轉(zhuǎn)移膜、轉(zhuǎn)移組件和微器件曲面轉(zhuǎn)移方法
- 轉(zhuǎn)移頭、轉(zhuǎn)移裝置和轉(zhuǎn)移方法
- 轉(zhuǎn)移工具及轉(zhuǎn)移方法





