[發明專利]測量方法、載臺裝置、及曝光裝置

無效

• 申請號: 201410271092.7
• 申請日: 2008-07-16
• 公開（公告）號: CN104111589A
• 公開（公告）日: 2014-10-22
• 發明（設計）人: 荒井大
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019
• 代理人: 壽寧

本申請是申請號為200880025096.X的名稱為“測量方法、載臺裝置、及曝光裝置”的發明專利申請的分案申請，原申請的申請日是2008年07月16日。

技術領域

本發明，是關于用以測量進行物體移動的載臺等可動構件的位置資訊的測量技術及載臺技術、使用該載臺技術進行物體的曝光的曝光技術、使用該曝光技術制造半導體元件及液晶顯示元件等的元件的元件制造技術。

背景技術

在制造半導體元件或液晶顯示元件等的元件(電子元件、微型元件)的微影制程中，主要是使用步進機等的靜止曝光型(一次曝光型)的投影曝光裝置、以及掃描步進機等的掃描型的投影曝光裝置(掃描型曝光裝置)等的曝光裝置，以將形成于標線片(或光罩等)的電路圖案通過投影光學系統投影曝光于涂布有光阻的晶圓(或玻璃板等)上。此種曝光裝置，為了減低所制造的電路圖案的位置歪斜或重疊誤差，以往是使用以頻率穩定化激光為光源的激光干涉儀，來作為用以定位或移動晶圓等的載臺的位置測量用途。

激光干涉儀中，激光所傳遞的光路上的氣體的折射率，會依存于該器體的溫度、壓力、濕度等而變動，折射率的變動會導致產生干涉儀的測量值的變動(干涉儀的搖晃)。因此，曝光裝置在以往是使用對干涉儀的測量光束的光路吹送經溫度控制的氣體的送風系統，藉由使該光路的氣體的溫度穩定化，來減低干涉儀的搖晃情形。最近，為了進一步提高激光干涉儀的測量光束的光路上氣體的溫度穩定性，也提出了一種使用筒狀外罩等覆蓋該測量光束的光路的至少一部分的曝光裝置(參照例如專利文獻1、專利文獻2)。

專利文獻1：日本特開平5－2883313號公報

專利文獻2：日本特開平8－261718號公報

如上所述,在使用激光干涉儀時,有需要施以防止搖晃的對策。然而,特別是掃描型曝光裝置的晶圓載臺，在測量對象的載臺高速地縱橫移動時,由于會因載臺的移動導致氣流不規則地變動，而仍有干涉儀會搖晃某種程度的問題。

本發明的狀態，其目的是提供能減低周圍氣體的折射率變動的影響的測量技術及載臺技術、能使用該載臺技術提高載臺的定位精度等的曝光技術、以及使用該曝光技術的元件制造技術。

發明內容

本發明的第1測量方法，是測量可動構件相對既定構件的位移資訊,其具有：在該既定構件與該可動構件中的一方設置標尺，在另一方設置可檢測該標尺的多個檢測器的步驟；以線膨脹系數較該可動構件小的支撐構件一體支撐設置于該既定構件的該標尺或該多個檢測器的步驟；以及從該多個檢測器的檢測結果測量該可動構件的位移資訊的步驟。

本發明的第2測量方法,是以多個檢測器檢測設置于可動構件的標尺,以測量該可動構件的位移資訊，其具有：以支撐構件一體支撐該多個檢測器的步驟；以及從該多個檢測器的檢測結果測量該可動構件的位移資訊的步驟；該支撐構件，是通過前端部可在相對基座構件沿該標尺表面的方向位移的多個撓曲構件，連結于線膨脹系數較該支撐構件大的該基座構件。

本發明的載臺裝置，可將載臺相對既定構件定位，其具備：設置于該載臺與該既定構件的一方的標尺；設置于該載臺與該既定構件的另一方,用以檢測與該標尺位置相關的資訊的多個檢測器；一體支撐設置于該既定構件的該標尺或該多個檢測器，且線膨脹系數較該載臺小的支撐構件；以及從該多個檢測器的檢測結果求出該載臺的位移資訊的控制裝置。

本發明的第1曝光裝置，是對基板照射曝光用光而在該基板形成既定圖案；其具有本發明的載臺裝置，是藉由該載臺裝置定位該基板。

本發明的第2光裝置，是對可移動的載臺所保持的基板照射曝光用光而在該基板形成既定圖案，其具備：設置于該載臺的標尺；用以檢測與該標尺位置相關的資訊的多個檢測器；一體支撐該多個檢測器的支撐構件；線膨脹系數較該支撐構件大的基座構件；將該支撐構件以可位移于沿該標尺表面的方向的狀態連結于該基座構件的連結機構；以及從該多個檢測器的檢測結果求出該載臺的位移資訊的控制裝置；該連結機構包含多個撓曲構件，該多個撓曲構件，是連結該支撐構件與該基座構件，且前端部可在沿該標尺表面的方向位移。

又，本發明的元件制造方法，為一種包含微影制程的元件制造方法,其中:是在該微影制程中使用本發明的曝光裝置。