[發(fā)明專利]渦旋光束布里淵放大方法及實(shí)現(xiàn)該方法的系統(tǒng)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410267645.1 | 申請日: | 2014-06-16 |
| 公開(公告)號: | CN104020626A | 公開(公告)日: | 2014-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高瑋;穆春元;孫培敬;袁治君;浦紹質(zhì) | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱理工大學(xué) |
| 主分類號: | G02F1/39 | 分類號: | G02F1/39;H01S3/30 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標(biāo)事務(wù)所 23109 | 代理人: | 岳泉清 |
| 地址: | 150080 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 渦旋 光束 布里淵 放大 方法 實(shí)現(xiàn) 系統(tǒng) | ||
1.渦旋光束布里淵放大方法,其特征在于:該方法為:在Stokes信號光路中引入渦旋光束產(chǎn)生模塊,形成渦旋光束,將所述渦旋光束引入布里淵放大器中進(jìn)行放大。
2.實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1所述的渦旋光束布里淵放大方法的系統(tǒng),其特征在于:它包括激光器(1)、1/2波片(2)、一號偏振分光片(3)、Stokes信號光產(chǎn)生模塊(4)、一號全反鏡(5)、渦旋光束產(chǎn)生模塊(6)、放大器模塊(7)、二號全反鏡(8)和三號全反鏡(9);
所述激光器(1)產(chǎn)生的激光經(jīng)過1/2波片(2)透射后,入射至一號偏振分光片(3),并被該一號偏振分光片(3)分為兩束:反射光S偏振光和透射光P偏振光,S偏振光入射至Stokes信號光產(chǎn)生模塊(4),該Stokes信號光產(chǎn)生模塊(4)產(chǎn)生的Stokes信號光經(jīng)一號偏振分光片(3)透射后入射至一號全反鏡(5)的表面,被一號全反鏡(5)反射后入射至渦旋光束產(chǎn)生模塊(6),該渦旋光束產(chǎn)生模塊(6)輸出的光作為信號光入射至放大器模塊(7)的信號光入射端;從一號偏振分光片(3)透射出的P偏振光依次被二號全反鏡(8)和三號全反鏡(9)反射,然后作為泵浦光入射至放大器模塊(7)的泵浦光入射端。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的實(shí)現(xiàn)渦旋光束布里淵放大方法的系統(tǒng),其特征在于:所述的Stokes信號光產(chǎn)生模塊(4)包括一號1/4波片(4-1)、聚焦透鏡(4-2)和產(chǎn)生器介質(zhì)(4-3),經(jīng)一號偏振分光片(3)反射的S偏振光依次經(jīng)過一號1/4波片(4-1)透射和聚焦透鏡(4-2)聚焦后,入射至產(chǎn)生器介質(zhì)(4-3),產(chǎn)生器介質(zhì)(4-3)輸出的信號光經(jīng)過聚焦透鏡(4-2)后入射至一號1/4波片(4-1),經(jīng)一號1/4波片(4-1)透射后入射至一號偏振分光片(3)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的實(shí)現(xiàn)渦旋光束布里淵放大方法的系統(tǒng),其特征在于:所述的渦旋光束產(chǎn)生模塊(6)為螺旋相位板、空間光調(diào)制器或渦旋光纖。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的實(shí)現(xiàn)渦旋光束布里淵放大方法的系統(tǒng),其特征在于:所述的放大器模塊(7)包括放大介質(zhì)(7-1)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的實(shí)現(xiàn)渦旋光束布里淵放大方法的系統(tǒng),其特征在于:所述的放大器模塊(7)的信號光與泵浦光的夾角α為0.6°~30°。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的實(shí)現(xiàn)渦旋光束布里淵放大方法的系統(tǒng),其特征在于:所述的放大器模塊(7)還包括二號偏振分光片(7-2),二號1/4波片(7-3)和三號1/4波片(7-4),經(jīng)三號全反鏡(9)反射出的光經(jīng)二號偏振分光片(7-2)透射后入射至二號1/4波片(7-3),并經(jīng)二號1/4波片(7-3)透射后入射至放大介質(zhì)(7-1),放大器模塊(7)的信號光與泵浦光的夾角α為0°,渦旋光束產(chǎn)生模塊(6)輸出的渦旋光束入射至三號1/4波片(7-4),并經(jīng)三號1/4波片(7-4)透射后入射至放大介質(zhì)(7-1),放大的渦旋光束經(jīng)二號1/4波片(7-3)透射后,入射至二號偏振分光片(7-2),并被該二號偏振分光片(7-2)反射后作為所述的渦旋光束布里淵放大系統(tǒng)的輸出光輸出。
8.根據(jù)權(quán)利要求5或7所述的實(shí)現(xiàn)渦旋光束布里淵放大方法的系統(tǒng),其特征在于:所述的放大介質(zhì)(7-1)為液體介質(zhì)或光纖。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的實(shí)現(xiàn)渦旋光束布里淵放大方法的系統(tǒng),其特征在于:所述的產(chǎn)生器介質(zhì)(4-3)的長度為10cm~60cm。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的實(shí)現(xiàn)渦旋光束布里淵放大方法的系統(tǒng),其特征在于:所述的聚焦透鏡(4-2)的焦距為5cm~30cm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于哈爾濱理工大學(xué),未經(jīng)哈爾濱理工大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410267645.1/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





