[發(fā)明專利]從數(shù)字圖像中提取水印的方法和系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410265221.1 | 申請日: | 2010-01-15 |
| 公開(公告)號: | CN104112249B | 公開(公告)日: | 2017-07-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 維維克·塞沙德里;基蘭·辛格·帕尼薩;蘭韋爾·庫納 | 申請(專利權(quán))人: | 谷歌公司 |
| 主分類號: | G06T1/00 | 分類號: | G06T1/00;H04N1/32;H04N19/467;H04N19/48 |
| 代理公司: | 中原信達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11219 | 代理人: | 周亞榮,安翔 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 數(shù)字圖像 提取 水印 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種從數(shù)字圖像中提取水印的方法,包括:
(a)將所述數(shù)字圖像變換為具有頻域中的系數(shù)的系數(shù)矩陣;
(b)基于投影的系數(shù)塊分布中的每個系數(shù)塊中的水印指示符系數(shù)集合確定所述數(shù)字圖像是否帶有水印,其中所述投影的系數(shù)塊分布基于所述系數(shù)矩陣中的系數(shù)偏移量;和
(c)從投影的水印塊分布的水印塊獲取水印,其中所述投影的水印塊分布基于所述投影的系數(shù)塊分布的塊偏移量。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其中所述確定所述數(shù)字圖像是否帶有水印包括:
(i)選擇所述系數(shù)矩陣中的投影的系數(shù)塊偏移量;
(ii)基于所述系數(shù)矩陣中的多個投影的系數(shù)塊中的每個中的水印指示符系數(shù)集合確定統(tǒng)計測量;并且
(iii)將所述統(tǒng)計測量與預(yù)定閾值進(jìn)行比較以確定所述數(shù)字圖像是否帶有水印。
3.如權(quán)利要求2所述的方法,其中所述統(tǒng)計測量包括所述水印指示符系數(shù)集合中的系數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)偏差。
4.如權(quán)利要求2所述的方法,進(jìn)一步包括:
重復(fù)步驟(i)、(ii)和(iii),改變所述投影的系數(shù)塊偏移量直至以下中的一個:
在步驟(iii)中確定所述數(shù)字圖像帶有水印;或者
已經(jīng)對系數(shù)塊區(qū)域內(nèi)的所有所述投影的系數(shù)塊偏移量重復(fù)了步驟(i)、(ii)和(iii)。
5.如權(quán)利要求1所述的方法,其中獲取水印包括:
生成多個投影的水印塊分布,其中每個所述投影的水印塊分布基于不同的系數(shù)塊偏移量;
從每個投影的水印塊分布提取水印單元矢量集合;
選擇所提取的水印單元矢量集合中的一個;并且
基于所選擇的所述一個水印單元矢量集合確定所述水印。
6.如權(quán)利要求5所述的方法,其中所述選擇所述水印單元矢量集合中的一個包括:
對每個所述水印單元矢量集合生成相關(guān)性量度;并且
基于所述相關(guān)性量度選擇所述一個水印單元矢量集合。
7.一種用于從數(shù)字圖像中提取水印的系統(tǒng),包括:
圖像變換模塊,其耦合到至少一個處理器并且被配置為使用所述至少一個處理器將所述數(shù)字圖像變換為頻域中的系數(shù)的多個系數(shù)塊;
水印指示符檢測模塊,其耦合到所述至少一個處理器并且被配置為使用所述至少一個處理器基于投影的系數(shù)塊分布中的每個系數(shù)塊中的預(yù)定水印指示符系數(shù)集合來確定所述數(shù)字圖像是否帶有水印;和
水印提取器模塊,其耦合到所述至少一個處理器并且被配置為使用所述至少一個處理器從投影的水印塊分布的投影的水印塊獲取水印,其中所述投影的水印塊分布基于所述投影的系數(shù)塊分布。
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